No.130 (2007年9月)
次世代ナノスケールメモリーの薄膜・ドット・界面制御
巻頭言
ナノ領域に挑戦するメモリ技術
小柳光正（東北大）
研究
次世代ナノスケールメモリーの薄膜・ドット・界面制御
Siナノクリスタルを用いた２重トンネル接合メモリー
（Siナノクリスタルを介した電子のトンネル現象）
大場竜二（東芝）
MgOトンネル磁気抵抗素子の巨大TMR効果とMRAMおよびHDD磁気ヘッドへの応用
湯浅新治（産総研）
金属/酸化物/金属構造における電気抵抗スイッチング現象
井上公（産総研）
熱アシスト磁気記録用高効率近接場光発生素子の開発
松本拓也（日立）
最新技術情報
LEEM/PEEM を用いた表面研究
越川孝範（大阪電通大)
談話室
研究室紹介
日本女子大学理学部数物科学科 一宮研究室
Brush up English
科学英語一言メモ：
冠詞の有無で大違い
山下理恵（筑波大)