セミナー:ナノエレクトロニクスに向けた技術展開 -その場・動作状態でのデバイス計測評価技術を中心にして-

第34回 薄膜・表面物理セミナー (2006)

概要

案内(PDF:27.5KB)

概要集(PDF:166KB)


概要

最近のナノエレクトロニクス分野は,ナノ領域に突入したVLSI技術や,ドットやワイヤなどの半導体量子効果デバイスに加えてスピン材料を用いたデバイス研究などが活発に行われています.しかし,これらの研究はその場・動作状態での多様な評価分析手法を伴ってはじめて進展します.本セミナーでは,各種デバイス群の研究動向と併せて,その場・動作状態でのデバイス計測評価技術を中心に紹介します.

日時

平成18年7月20日(木) 9:40 – 17:00
21日(金) 9:40 – 17:00

場所

東京大学 本郷キャンパス 山上会館 大会議室
(東京都文京区本郷7-3-1 TEL: 03-3815-6363)
アクセスマップ
キャンパス内マップ

 

プログラム

7月20日(木)
時間 講演題目 講師
9:40-10:50 VLSI技術の進展と動作状態解析の重要性 望月康則(NEC)
10:50-12:00 動作中FETのキャリア分布計測 山田啓文・小林 圭
(京大)
12:00-13:15 昼食
13:15-14:25 電子線ホログラフィーによるデバイスの電界分布計測 平山 司(ファインセラミックセンター)
14:25-15:35 量子ドットとフォトニック結晶の光通信・量子情報への応用 荒川泰彦・岩本 敏
(東大)
15:35-15:50 休憩
15:50-17:00 量子細線・量子ドットの局所発光解析 山本直紀(東工大)

 

7月21日(金)
時間 講演題目 講師
9:40-10:50 Si単電子デバイスとその場計測の重要性 高橋庸夫(北大)
10:50-12:00 ナノサイエンスから生まれた「原子スイッチ」
-その開発の現状と新展開-
長谷川剛(物材機構)
12:00-13:15 昼食
13:15-14:25 スピントランジスタの研究動向 菅原 聡(東大)
14:25-15:35 放射光光電子顕微鏡PEEMによるナノ領域の磁区観察と制御 尾嶋正治(東大)
15:35-15:50 休憩
15:50-17:00 ナノ磁性の応用と計測の重要性 大谷義近
(東大、理研)

 

参加費

テキスト代、消費税含む

薄膜・表面物理分科会会員 * 応用物理学会会員 **
協賛学協会会員
学生*** その他
15,000円 20,000円 3,000円 25,000円

*薄膜・表面物理分科会賛助会社の方は、分科会会員扱いといたします。

**応用物理学会賛助会社の方は、応用物理学会会員扱いといたします。
現在非会員の方でも,参加登録時に薄膜・表面物理分科会(年会費A会員:3,000円,B会員:2,200円)にご入会いただければ,本セミナーより会員扱いとさせていただきます.

http://www.jsap.or.jp/join/kojin.htmlより入会登録を行い,仮会員番号を取得後,本セミナーにお申込み下さい.
入会決定後,年会費請求書をお送りいたします.
(年会費をセミナー参加費と同時にお振込なさらないで下さい)

定員

100名

参加申込締切

2006年7月13日(木) (延長しました!)

参加申込方法

ここから参加登録をして下さい。
参加登録完了後,下記口座に参加費を参加者名でお振込み下さい.参加費の返金はいたしません.また,原則として請求書の発行はいたしません.領収書は当日会場にてお渡しいたします.

受講費振込先

三井住友銀行 本店営業部(本店も可)
普通預金 口座番号:9474715
(社)応用物理学会 薄膜・表面物理分科会
(シャ)オウヨウブツリガッカイハクマク・ヒョウメンブツリブンカカイ

セミナー内容問合せ先

静岡大学電子工学研究所 田部道晴
TEL: TEL: 053-478-1307  FAX: 053-478-1651
E-mail: romtabe@rie.shizuoka.ac.jp

大阪電気通信大学情報通信工学部 安江常夫
TEL: 072-824-1131  FAX: 072-825-4590
E-mail: yasue@isc.osakac.ac.jp

参加登録問合せ先

応用物理学会事務局分科会担当 伊丹 文子
TEL: 03-3238-1043  FAX: 03-3221-6245 E-mail: divisions@jsap.or.jp

更新:2006/1/1