Controlled growth and characterization 研究会 2024-II

Controlled growth and characterization 研究会 2024-II

日時

2024年12月20日(金)14:00〜12月21日(土)12:00

会場

TKP 新大阪ビジネスセンター カンファレンスルーム 3B

プログラム

12 月 20 日

14:00-14:20 受付

14:20-14:30 開会

14:30-15:00 二次元有機量子ビット配列の表面合成

         千葉大学 山田豊和

15:00-15:30 HfO2系強誘電体薄膜/電極の界面設計による結晶構造制御

         東京大学 女屋 崇

15:30-16:00 計算科学手法を用いた界面電子構造の解析・予測

         神戸大学 小野倫也

16:00-16:30 休憩

16:30-17:00  多層薄膜界面の可視化と制御に向けた角度分解XPSビッグデータ計測シミュレーション技術の開発

          シエンタオミクロン株式会社 豊田智史

17:00-17:30  原子状水素を利用した表面改質と薄膜形成技術の開発

          兵庫県立大学 部家 彰

17:30-18:00  テラヘルツ電磁波発生検出素子応用に向けた低温成長Bi系III-V族半導体混晶

          広島大学 富永依里子

12 月 21 日

9:20-9:30 受付

9:30-10:00  原子間力顕微鏡による光触媒表面の構造と物性計測

          ファインセラミックスセンター 勝部大樹

10:00-10:30  制御界面導入による熱電薄膜の高性能化

          大阪大学 石部貴史

10:30-10:45 休憩

10:45-11:15  光学的な共鳴を示すシリコンナノ粒子の開発と応用

          神戸大学 杉本 泰

11:15-11:45  SiC MOSFET性能向上に向けたSiO2/SiC界面制御

         関西学院大学 細井卓治

11:45-12:00 閉会

PDF版プログラム

定員

50人

参加費

無料

世話人

住友弘二(兵庫県立大学),中村芳明(大阪大学)

更新:2024/11/11