Controlled growth and characterization 研究会 2024-II
Controlled growth and characterization 研究会 2024-II
日時
2024年12月20日(金)14:00〜12月21日(土)12:00
会場
TKP 新大阪ビジネスセンター カンファレンスルーム 3B
プログラム
12 月 20 日
14:00-14:20 受付
14:20-14:30 開会
14:30-15:00 二次元有機量子ビット配列の表面合成
千葉大学 山田豊和
15:00-15:30 HfO2系強誘電体薄膜/電極の界面設計による結晶構造制御
東京大学 女屋 崇
15:30-16:00 計算科学手法を用いた界面電子構造の解析・予測
神戸大学 小野倫也
16:00-16:30 休憩
16:30-17:00 多層薄膜界面の可視化と制御に向けた角度分解XPSビッグデータ計測シミュレーション技術の開発
シエンタオミクロン株式会社 豊田智史
17:00-17:30 原子状水素を利用した表面改質と薄膜形成技術の開発
兵庫県立大学 部家 彰
17:30-18:00 テラヘルツ電磁波発生検出素子応用に向けた低温成長Bi系III-V族半導体混晶
広島大学 富永依里子
12 月 21 日
9:20-9:30 受付
9:30-10:00 原子間力顕微鏡による光触媒表面の構造と物性計測
ファインセラミックスセンター 勝部大樹
10:00-10:30 制御界面導入による熱電薄膜の高性能化
大阪大学 石部貴史
10:30-10:45 休憩
10:45-11:15 光学的な共鳴を示すシリコンナノ粒子の開発と応用
神戸大学 杉本 泰
11:15-11:45 SiC MOSFET性能向上に向けたSiO2/SiC界面制御
関西学院大学 細井卓治
11:45-12:00 閉会
定員
50人
参加費
無料
世話人
住友弘二(兵庫県立大学),中村芳明(大阪大学)
更新:2024/11/11