研究会等の活動

薄膜・表面物理に関するテーマ・問題について、第一線の研究者に意見や研究結果などを発表して頂き、討論を行います。通常は、応用物理学会の講演大会にあわせて開催し、少し、幅広い分野の参加者を念頭においています。

「シンポジウム」の開催情報を見る

薄膜・表面物理に関する最近のトピックスについて第一線の研究者の方々に講演をお願いし、情報を提供するとともに、参加者による活発な討論を通じて理解を深めます。

「セミナー」の開催情報を見る

薄膜・表面物理の基礎となる物理や技術に関し、その分野の第一人者の先生方に分かりやすい講義をお願いします。短期間で全体を見渡し勉強することが可能な場を提供します。

「基礎講座」の開催情報を見る

薄膜・表面物理に関する研究テーマについて、その分野の専門家による講演・討論を通じ、情報交換や問題を深く掘り下げることで新しい展開を目指します。新しくそのテーマの研究を始めようとしておられる方々、また、その研究テーマに興味をお持ちの方々の参加も歓迎します。

「特別研究会」の開催情報を見る

毎年開催されることになった研究会で、以下のものがあります。

1. LSI配線における原子輸送・応力問題」研究会

「LSI配線における原子輸送・応力問題」研究会

本特別研究会は、正式名を「LSI配線における原子輸送・応力問題研究会」と称し、Si ULSIにおける多層配線技術での「信頼性」の向上を目的として、各種信頼性現象（エレクトロマイグレーション、ストレスインデュースドボイディングなど）の物理化学を議論し、配線プロセスの改善、新規プロセスの提案を目的として1994年に開始され、毎年7月に開催されている。またこの会議は原則1年半毎に米、欧、日で開催される国際ワークショップ「Workshop on Stress Induced Phanmana in Matallization」（1991年9月より開始）と連携しており、本ワークショップは国内では1997年、2007年にそれぞれ東京、京都で開催した。配線の信頼性現象は100nm以下の寸法の金属/絶縁膜構造での「薄膜、界面物性」に起因する物理現象そのものであり、本会議には企業でのLSI配線開発者は勿論、金属や絶縁膜物性、表面/界面物性、それらの評価手法に関した大学、公的研究機関などから多くの研究者が参画されている。

2. 「走査プローブ顕微鏡」研究会

走査型プローブ顕微鏡 International Colloquium on Scanning Probe Microscopy

本特別研究会は、１９８７年に設立され、１９９３年からは国際コロキウムとして開催されている。この間、我が国における表面プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）研究の活発な交流の場として、また新しくＳＰＭの分野の研究に参画される研究者への啓蒙の場として大きな役割を果たし、国際会議となってからは、毎年、海外の著名な研究者を招待し、海外でも注目される会議となっている。現在、ナノテクノロジーが世界的に国家的戦略の中心に位置づけられ、超高速素子、分子素子、バイオテクノロジー、量子光学、触媒化学等、分野間の垣根を越えて多くの新しい成果が得られており、微細な構造の創製、物性評価におけるＳＰＭの潜在力は高く、本研究会は国内外において重要な位置づけとなっている。尚、２００２年はハワイにて、また２００５年には札幌でプローブ顕微鏡の国際会議ＳＴＭ０５と共催で開催された。 その他 毎回ＪＪＡＰのRegular Paperとして論文集が発行されている。

3. 「イオンビームによる表面・界面解析」研究会

イオンビームによる表面・界面解析特別研究会 Japanese national workshop on surface and interface ion beam analysis

本特別研究会は、２０００年に設立され、我が国における固体表面・界面のイオンビーム分析、およびイオンビームと固体表面との相互作用研究の交流の場として大きな役割を果たしている。２００４年には、第１５回非弾性イオン表面衝突に関する国際会議（ＩＩＳＣ－１５）と共催で開催され、その後は、毎年海外の著名な研究者を複数招待して開催しており、我が国のイオンビーム関連の研究成果を海外へ発信する役割も担っている。 主要題目 本研究会は ICISS, MEIS, RBS, ERD, PIXE, NRA などのイオンビーム分析を主要な題目としており、その基礎となるイオンビームと固体表面の相互作用も含んで、その範囲は以下の領域に及んでいる。 Surface and Interface structures Bio- & macromolecules and polymers Micro and nano beams Charge-exchange processes Energy loss processes Electron and photon emission processes Sputtering, erosion and desorption processes Collision induced physical, chemical and biological reactions Radiation damage and material modification

4. 表面・ナノ科学シンポジウム

特別研究会「表面・ナノ科学シンポジウム」 Symposium on Surface and Nano Science

本特別研究会は、1999年に「表面物理シンポジウム」として設立され、2006年より、より広い分野での討論を目的として「表面・ナノ科学シンポジウム」に名称を変更した。2001年に国際シンポジウム　Symposium on Surface Science と共催以降、国際シンポジウムとして開催されている。表面・ナノ科学の分野は進歩が早く，また現象の理解には広範な分野にわたっての知識が必要とされるため，たえずさまざまな表面・ナノ科学分野の研究者との最新の情報の交換する必要に迫られている．本シンポジウムは人数を限り、合宿スタイルによって表面・ナノ科学全般についての緊密な討論を通じて表面・ナノ科学の新しい展開へと繋げ，多くの実りある成果が期待される．非常にレベルの高い講演と熱心な討論が，昼夜に渡って繰り広げられ，非常に充実した会となっている． 主要題目 本シンポジウムは以下の主題に関して討論する。 Surface structures and surface electronic states Epitaxial growth on surfaces Surface thermodynamics and kinetics Crystal shapes and sizes Adsorption and desorption Particle-surface interaction Application of surface science Nano structures

5. 電子デバイス界面テクノロジー研究会（旧 ゲートスタック研究会）

電子デバイス界面テクノロジー研究会

半導体デバイスの研究開発において，構造，材料の変革が進んでいます。ロジックLSIでは，FIN構造に代表される立体構造や新しい高移動度チャネル材料を用いたトランジスタ開発が進み、パワーデバイスにおいては，SiCやGaNデバイスの開発，最近ではGa2O3を用いた新しい展開も始まっています。 これらの他にもメモリやTFT、センサー、フォトニクスなど様々なデバイスの開発において性能の鍵を握るのが界面テクノロジーです。異種材料界面の科学的な理解はデバイス研究開発に不可欠なものとなっています。本研究会は1996年から2015年まで20回にわたり開催されてきた「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会,「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」」研究会の歴史を継承し，2015年度からより一層スコープを広げ，新たな名称のもとスタートしました。 ウェブサイト http://home.hiroshima-u.ac.jp/oxide/

下記の薄膜・表面物理に関する国際会議の主催、共催、協賛などをしています。

「国際会議」の開催情報を見る

1. ACSIN：原子スケール制御表面・界面・ナノ構造国際シンポジウム

原子スケール制御表面・界面・ナノ構造国際シンポジウム International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN)
本国際会議は、１９９１年秋に、応用物理学会薄膜・表面物理分科会の創立２０周年を記念して、「原子スケール制御表面・界面国際シンポジウム;ACSI」として創設された。 本会議では、表面や界面の形成・反応過程を原子レベルで解明することによって、表面・界面の形成を原子スケールで制御するための科学・技術の創造に寄与することを主題としている。 近年のナノサイエンスの発展に鑑み、プロヴァンスで行われた第５回から会議のスコープに「ナノ構造」を加えて「ACSIN」となった。第９回は東京大学駒場リサーチキャンパスにおいて２００７年１１月に４６２名の参加者を得て開催された。第１０回は２００９年９月にスペインのグラナダで開催されることが決定している。 ウェブサイト http://annex.jsap.or.jp/tfspd/acsin9/index.html

2. IWDTF:次世代ULSIデバイスのための誘電体薄膜科学と技術に関する国際ワークショップ

次世代ULSIデバイスのための誘電体薄膜科学と技術に関する国際ワークショップ International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES:SCIENCE AND TECHNOLOGY

1996年から、応用物理学会　薄膜・表面物理分科会の主催、同シリコンテクノロジー分科会の共催により、特別研究会「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」が毎年開催されている。第10回目に当たる2005年の研究会は、スコープをゲート絶縁膜から周辺のゲートスタックに拡大し、研究会名も「ゲートスタック研究会－材料・プロセス・評価の物理－」と改めて、新たにスタートした。上記国内研究会の経験を踏まえ、更に国際的な規模での会議を開催するため、応用物理学会主催で1999年、国際ワークショップとしてInternational Workshop on Dielectric Thin Films For Future ULSI Devices : Science and Technology（IWDTF）が発足し、2004年に第2回国際ワークショップIWDTF-04を開催した。その間、高誘電率ゲート絶縁膜材料研究の拡大に応え、高誘電率材料にスコープを絞ったゲート絶縁膜に関する国際ワークショップThe International Workshop on Gate Insulator（IWGI）を2001年、2003年の2回に亘って開催した。このIWGIを再び統合し、スコープをゲート絶縁膜及びゲートスタック材料に拡大して、2006年に第3回国際ワークショップIWDTF-06を開催した。 その他 毎回ＪＪＡＰのRegular Paperとして論文集が発行されている。

3. ICSPM:International Colloquium on Scanning Probe Microscopy

走査型プローブ顕微鏡 International Colloquium on Scanning Probe Microscopy

本特別研究会は、１９８７年に設立され、１９９３年からは国際コロキウムとして開催されている。この間、我が国における表面プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）研究の活発な交流の場として、また新しくＳＰＭの分野の研究に参画される研究者への啓蒙の場として大きな役割を果たし、国際会議となってからは、毎年、海外の著名な研究者を招待し、海外でも注目される会議となっている。現在、ナノテクノロジーが世界的に国家的戦略の中心に位置づけられ、超高速素子、分子素子、バイオテクノロジー、量子光学、触媒化学等、分野間の垣根を越えて多くの新しい成果が得られており、微細な構造の創製、物性評価におけるＳＰＭの潜在力は高く、本研究会は国内外において重要な位置づけとなっている。尚、２００２年はハワイにて、また２００５年には札幌でプローブ顕微鏡の国際会議ＳＴＭ０５と共催で開催された。 ウェブサイト http://dora.bk.tsukuba.ac.jp/event/ICSPM22/ その他 毎回ＪＪＡＰのRegular Paperとして論文集が発行されている。