No.192 (2025年9月)

巻頭言

デバイス製造における固液界面現象の科学と技術　～特集号に寄せて

研究

「界面化学から見る半導体洗浄技術の過去・現在・未来」
SCREENｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｰｿﾘｭｰｼｮﾝｽﾞ    田中孝佳

「シリコンバレーの半導体製造装置メーカーにおける先端デバイス開発の取り組み」
Applied Materials Inc.   北島知彦

「ナノ流体デバイスで明らかにする数nmから数100nmの溶液物性や構造」
早稲田大学   馬渡和馬

「ヘテロダイン検出振動和周波発生分光による水／酸化物界面の観測」
理化学研究所   田原太平

「有機半導体の印刷製膜の現状と課題」
大阪工業大学   藤井彰彦

「溶液処理による遷移金属ダイカルコゲナイドの光学特性変調」
東京大学   桐谷乃輔

談話室

「筑波大学 数理物質系 環境半導体・磁性体研究室の紹介」
筑波大学　都甲 薫

掲示板　開催案内

次世代ULSIデバイスのための誘電体薄膜科学と技術に関する国際ワークショップ International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices:Science and Technology (IWDTF2025)

第54回薄膜・表面物理基礎講座「自動計測・自律実験とデータ駆動型解析による薄膜表面物理の新展開」

第26回「イオンビームによる表面・界面の解析と改質」特別研究会

第39回特別研究会「走査型プローブ顕微鏡」／The 33rd International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM33)

第31回電子デバイス界面テクノロジー研究会－材料・プロセス・デバイス特性の物理－

掲示板　開催報告

第53回薄膜・表面物理セミナー「デバイス製造における固液界面現象の科学と技術」

議事録

薄膜・表面物理分科会 第54期第1回常任幹事会議事抄録

薄膜・表面物理分科会 第54期第2回幹事会議事抄録

会　告

薄膜・表面物理分科会 第54期幹事名簿

薄膜・表面物理分科会 会員数、賛助会社数・社名

ニュースレター投稿規定

編集後記

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