No.132 (2008年3月)
薄膜界面制御とデバイス応用
巻頭言
幹事長の2年間を振り返って
重川秀実（筑波大）
研究
薄膜界面制御とデバイス応用
直接接合LaAlO/Si 界面への1原子層SrSi2挿入による界面特性改善
高島 章（東芝）
HfSiOxによる仕事関数制御を利用した低コスト45 nmノードCMOS技術
筒井 元（NECエレクトロニクス）
新しいXPS評価手法を用いた極薄SiO2/Si界面の研究
廣瀬和之（宇宙研）
強相関スピントンネル接合の界面制御
赤穗博司（産総研）
最新技術情報
キセノンプラズマ発光によるバルク敏感高分解能光電子分光
相馬清吾，佐藤宇史，高橋 隆（東北大）
談話室
研究室紹介
物材機構 原子エレクトロニクスグループ
Brush up English
科学英語一言メモ：
（２） “More Is Different”（多は異なり）
山下理恵（筑波大)