「励起ナノプロセス」研究会

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ニュース・予定

今年2012年の活動計画：

1. 4月にアメリカ・サンフランシスコにて開催の2012 MRS Spring Meeting & Exhibitにおいて、当研究会が提案した"Symposium II: Nanoscale Materials Modification by Photon, Ion and Electron Beams"が応用物理学会とMRSとのJoint Symposiumとして実施されました。
   


2. ９月に神奈川県三浦市にて第２２回格子欠陥フォーラム「材料科学のための欠陥制御・評価」"を日本物理学会 領域１０ 格子欠陥・ナノ構造分科と当研究会との共催で開きます。
   


3. ９月に横浜で開かれるIUMRS-ICEM 2012において"D-9: Materials Modification and Processing by Quantum Beam Excitations"を実施します。
   


4. 秋に定例の第８回研究会を実施します。

はじめに

本研究会は、色々な物質に種々の量子ビーム（光（赤外、可視、紫外、X線）、電子線、イオンなど）を照射して物質の構造を改変・創製する試みを対象に、基礎から応用にわたる研究交流の場を設けるため設置されました。
各励起プロセスに内在する物理機構、副次的に生じる励起の種類と相互関係を基礎的に探り、得られた知見をもとに基礎に裏付けられた物質構造のナノスケール改変・加工の指導原理を確立します。

2004年10月に応用物理学会内に新領域研究グループとして発足しました。3年間にわたり研究会やシンポジウムの開催などを実施した結果をふまえ、さらに活発的に研究交流・推進を行うために規模を拡大し、2008年1月から研究会組織となりました。