2016年秋季講演会　「産学協働の広場―企業と大学の課題相談会―」

　

日時：　9月14日（水）午後1時30分～5時00分
場所：　朱鷺メッセ（新潟コンベンションセンター）展示ホール２階 学会附設展示会場内
　　　　（応物秋季講演会内）
参加費：　無料（事前登録不要）

　　　　
大学など公的研究機関において、国からの予算増加が見込めないいま、産業界からの研究資金流入に期待する声が大きくなっています。これまでの産学連携は、＜学・官＞のシーズを＜産＞にて実用化する方向が主でしたが、実は＜産＞には＜学・官＞に解いてもらいたいニーズが山積しており、そのような課題解決型の産学連携が新たに必要とされています。「産学協働の広場」は、そのような＜産＞の開発/量産現場における課題を、学・官へ問いかけ、議論する場として始まりました。会場では、ポスター形式での課題提示を行い、パネルの前でオープンな議論を行います。また、ブースを併設しますので、個別の議論も可能です。ぜひご来場ください。
　　　　　

課題提示参加グループ＆テーマの紹介

【開発/量産課題提示】
●大陽日酸株式会社  「エピタキシャル成長および電気特性評価」
我々は装置開発および販促の手段として電子デバイス向けエピ成長を行っている。電子デバイスではエピの電気特性が評価指標となる。電気特性を簡便かつ正確に評価できる手法に関してご教授願いたい。
 
●八岐大蛇[やまたのおろち]（ノイズ）退治グループ：浜松ホトニクス株式会社 「フリッカーノイズをサイエンスに」
電子デバイス・受発光デバイスなどで普遍的に観測されるフリッカーノイズについて、そのメカニズム解明や制御について、ほとんど手がつけられていないのが現状である。私たちは、量子カスケードレーザ（QCL）におけるフリッカーノイズについて、そのメカニズムを追及し、制御に成功した。この例のように、他のノイズもサイエンスとして取り組めば、制御でき、デバイスの特性の向上に寄与できるのではないか。
 
 
●　界面ナノ電子化学研究会 「半導体ウェットプロセス」 
半導体デバイス製造プロセスをはじめとする様々な分野で用いられるウエット処理技術について、固体／液体界面の現象をナノレベルで電気化学的見地などから理解し，新たな処理・加工技術を創出したい。
 
 
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