分科会名称 公益社団法人応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）
    Next Generation Lithography Research Committee
     
  研究会創設 2002年4月発足 
     
  分科会昇格 2016年1月昇格 
     
 
背景及び目的 　
  　リソグラフィ技術は、シリコンデバイスの黎明期から40年にわたる半導体の微細化を牽引してきた。この間、一貫して半導体製造技術として使用されてきた光による縮小投影露光技術は、解像度向上を目指して水銀ランプからエキシマレーザーへと露光波長の短波長化を進め、現在では波長193nmのArFエキシマレーザーによる液浸露光方式がデバイス量産に使用されている。そしてさらに、波長13.5nmの光を用いるEUV露光の実用化も間近となっている。また、光露光に加えて、電子ビーム露光、ナノインプリント（NIL）、自己組織化（DSA）などの今後のパターン形成を担う次世代リソグラフィ技術の研究開発が活発に進められている。 　
　2002年に応用物理学会の下に設立された次世代リソグラフィ技術研究会は、その後5期15年に亘ってリソグラフィ技術に関する研究会活動を展開してきた。扱う対象は、露光方式や露光装置の研究開発のみならず、レジスト、マスク、検査・測定装置などの基盤技術も含めた広い分野をカバーし、アカデミア、デバイスメーカー、装置メーカー、材料メーカー、マスクメーカーといった多くの関連する業種の研究者・技術者の参加を得て精力的に活動してきた。今や研究会の主イベントのNGLワークショップには300名を超える参加者が集まるという盛況ぶりである。
　この様な情勢の下、2013年に応用物理学会から分科会への昇格の勧告があった際には、既設の応用物理学会・シリコンテクノロジー分科会と協議を行い、同分科会において同様の活動を進めてきたリソグラフ研究委員会と当研究会を統合する形で分科会に昇格するに至ったものである。
　 こうして2016年に誕生した「次世代リソグラフィ研究会（分科会）」は、これまでの両者の活動を統合発展させ、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップや研究討論会等を主催するとともに、チュートリアル等の若手人材育成・支援事業を適宜実施し、これらの活動を通して次世代リソグラフィ技術全体のレベルアップを推進し、半導体デバイスの高速化、高密度化、低消費電圧化の実現に大きく寄与することを目指している。
[補足]　
　会員制度と分科会の名称について 　次世代リソグラフィ研究会は、日本工業技術振興協会の「放射光の半導体応用に関する研究委員会」として1993年に発足し、2002年に応用物理学会の「次世代リソグラフィ技術研究会」となった。同研究会は、設立当初より法人会員からの会費を活動基盤とし、半導体メーカー、露光装置メーカー、マスクメーカー約20社を法人会員として活動してきた。経済環境の変化や半導体業界再編の影響を受けて法人会員数が半減した時期もあったが新たに材料メーカー、プロセス装置メーカーなどの法人会員を加えて会員数を回復・維持している。法人会員は、所属する研究者やエンジニア等を人数の制限なく研究会活動に参加させることができ、これらを通して会員企業の技術情報獲得や技術者の育成に本分科会活動を役立ててもらっているところである。 　
　当研究会の分科会昇格に際しては会員や研究会活動の継続性確保の観点から、法人会員制度を存続させること、および分科会名称として「次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）」を継続使用することを応用物理学会に承認いただき、このおかげで活発な活動を維持・発展させながら現在に至っている。なお、以前は極めて少数だった個人会員についても分科会昇格後には会員数が急速に増加する状況となっている。
   
次世代リソグラフィ技術研究会分科会規程
  応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会分科会規程を次の通り定める。本規程に定めのない事項については応用物理学会共通規程の定めるところによる。

第1条（名称） 　
本分科会は、応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会（英語名　Next Generation Lithography Research Committee）と称する。

第2条（目的） 　
本分科会は、次世代のリソグラフィ技術およびその応用対象について議論し、関係する研究・開発の促進に寄与することを目的とする。

第3条（事業／活動） 　
本分科会は、前項の目的を達するために次の事業を行う。
1．講演会、討論会、ワークショップ、シンポジウム、チュートリアルなどを開催する。
2．分科会事業にかかわるウェブ上での広報活動を行う。
3．その他本分科会の目的を達成するために必要な事業を行う。

第4条（会員） 　
1．本分科会は、前項の目的に賛同する応用物理学会（以下、学会という）会員（正会員および学生会員）、本分科会が加入を認め学会理事会がそれを承認した法人（分科会法人会員）をもって組織する。
2．会員の資格審査は分科会の会員資格審査基準にのっとるものとする。
3．分科会法人会員に所属する者は、本分科会が主催する研究会、ワークショップ等に、会員と同等の条件で参加することができる。
4. 会員の除名および資格喪失については、応用物理学会定款第9条および第10条に準じる。

第5条（会費） 　
1．分科会員は、次の分科会費を12月末日までに前納するものとする。 　　　
正会員：本会および分科会の両方に所属する場合 　　　　　　　　　　　　　
年額　　2,000円（院生・学生は無料） 　　　分科会法人会員 　 年額　200,000円

第6条（幹事会）
1．本分科会に幹事をおき、幹事会を構成する。幹事会は、分科会の重要事項を審議決定 し、分科会の運営をつかさどる。 　　　　
2．幹事会に次の役員をおく。 　 幹事長　1名、常任幹事　若干名ただし、幹事長の要請により、幹事会が必要と認めたときには、副幹事長（2名 　以内）をおくことができる。
3．幹事長は、会務を総括し、学会理事会に出席して会務を報告し、規程の制定および改正、事業計画、事業報告、予算・決算、その他重要事項の承認を求める。副幹事長は幹事長を補佐し、幹事長に事故あるときはその職務を代行する。常任幹事は、庶務、会計、広報、事業企画の常務を処理する。
4. 役員の選任は次による。ただし、幹事長は学会理事会の承認を要する。幹事は会員の互選により、幹事長は幹事の互選により決める。 副幹事長は、幹事会の議を経て、幹事長が委嘱する。
5. 役員の任期は次の通りとする。幹事長の任期は2年とする。副幹事長の任期は原則2年とし、再任を妨げない。幹事の任期は原則2年とし、1年毎にその半数を改選する。
6. 幹事会は、法人会員に所属する者をオブザーバとして参加させることができる。

第7条（事務費負担） 　　　　
本分科会は、「応用物理学会分科会共通規程」に定める事務費を負担する。分科会法人会員についての事務費負担は、一法人あたり年会費の10％とする。

第8条（会計）
分科会の会計は、学会会計に包括処理される。分科会の資産は学会に帰属する。

第9条（改正）
幹事会は必要と認めたときは学会総務担当理事の承認を得て本規程を改正すること ができる。

付則 本規程は2016年1月1日より施行する。：2015年11月17日　理事会承認  
   次世代リソグラフィ技術研究会分科会会員資格審査基準

応用物理学会次世代リソグラフィ技術分科会に入会申込みをした者に対し、以下の基準により資格を審査する。

1．正会員および学生会員の入会資格 応用物理学会会員であって次世代リソグラフィ技術の研究開発に関心を有する者。

2．分科会法人会員の入会資格 　
下記2項目を満たす法人。
1）リソグラフィに関連する事業活動を行う公営法人または民間法人。 　　
2）次世代リソグラフィ技術の研究開発、社会への応用、教育、普及等に関し、本会の事業に参加し、または本会の発展に寄与しうる公営法人または民間法人。

付則 本基準は2016年1月1日より適用する。：2015年11月17日理事会承認































Copyright(C) Since 2017 公益社団法人応用物理学会 次世代光リソグラフィ 分科会 All Rights Reserved.