（公社）応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会　分科会　入会のご案内     次世代リソグラフィ技術（Next Generation Lithography：NGL）研究会は、次世代リソグラフィ技術の研究開発について議論し、技術開発の促進や開発した技術の応用展開などリソグラフィ技術の将来展望を切り拓くことを目的に、2002年4月に応用物理学会のもとに設立されました。2016年1月からは、「分科会」に昇格いたしましたが、これまでの活動との継続性を重視し、「次世代リソグラフィ技術（NGL）研究会」という名前はそのまま使用し、必要に応じて後ろにカッコ付きで（分科会）と表示しています。NGL研究会の特徴は、半導体リソグラフィに関する企業のエンジニアの参加が多いことです。分科会法人会員として、あるいは個人会員として、半導体メーカ、装置メーカ、マスクメーカ、材料メーカ等の多くの皆さんに御参加いただいています。   ●活動紹介   NGL研究会の主な活動は、定例研究会とNGLワークショップの開催です。   ●入会のご案内   NGL研究会には個人でご入会いただく個人会員（正会員）と、法人としてご入会いただく分科会法人会員があります。個人会員としての入会は、応用物理学会の会員であることが条件になります。分科会法人会員としてご入会いただくと、所属する従業員の皆様は人数の制限なく（応用物理学会会員であるかどうかを問わず）個人会員と同条件で、研究会、ワークショップ等にご参加いただけます。;   会員種別・年会費  会員種 年会費  個人会員（正会員）    2,000円  学生（学部・大学院） 無料  分科会法人会員※※ 200,000円   ※個人会員の入会手続きは、応用物理学会の「マイページ」の「分科会お申込み」からお願いします。 ※※分科会法人会員としてご入会ご希望の場合は、NGL研究会事務局（下記）までご連絡ください。NGL研究会事務局（相良）　E-mail: ngl@jsap.or.jp