| 主 催 | 九州大学システム情報科学府附属 価値創造型半導体人材育成センター |
| 共 催 |
精密工学会「プラナリゼーション CMP とその応用技術専門委員会」 応用物理学会九州支部 プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 九州大学プラズマナノ界面工学センター |
| 開 催
日 時 |
2024年2月22日（木） 13:00-17:30 |
| 場 所 |
九州大学 日本ジョナサン・KS・チョイ文化館 (伊都キャンパス) |
| 講師 |
土肥 俊郎 (九州大学 名誉教授，株式会社 Doi Laboratory 代表取締役) 檜山 浩國 (株式会社荏原製作所 技監) 會田 英雄 (長岡技術科学大学 准教授) 河瀬 康弘 (三菱ケミカル株式会社グローバル戦略部 マネージャー) 山村 和也 (大阪大学 教授) 井上 史大 (横浜国立大学 准教授) |
| 演 題 |
3次元実装時代のキープロセス/CMP の基礎と応用技術を展望する 「半導体 Si と化合物半導体の加工プロセスとキー技術 CMP とその応用技術の現状と将来展望」 「プラナリゼーション CMP 装置と要素技術および材料消耗品」(仮) 「化合物半導体基板の加工プロセスと次世代プラズマ融合CMP技術?GaN基板を中心としてー」 「半導体ウエハにおける CMP 後洗浄」 「プラズマおよび電気化学プロセスを援用した高能率無歪研磨技術」 「次世代 3D チップレット集積における CMP への期待と展望」 |
| 世話人 |
近藤 博基 九州大学システム情報科学府附属 価値創造型半導体人材育成センター 電話: 092-802-3628 email: hkondo[at]ed.kyushu-u.ac.jp 参加申込：https://forms.gle/rhyry8bXGwCphJyw7 |
支部長 ： 堀江 雄二（鹿児島大学）
horie[at]eee.kagoshima-u.ac.jp
庶務幹事： 吉武 剛（九州大学）
tsuyoshi_yoshitake[at]]kyudai.jp
ホームページに関する問い合わせ
teru[at]eee.kagoshima-u.ac.jp