ニュースレター４５周年記念特集号が発行されました。

第６３回春季学術講演会公式ウェブサイト

応物開催日

2016年3月19日 – 22日

場所

東工大　大岡山キャンパス

応用物理学会春季学術講演会(2016年3月）において，以下のシンポジウムが開催されました．

3/20　機能性酸化物探索の新展開　～more oxide, beyond oxide～
6.3 酸化物エレクトロニクス分科会企画シンポジウム
後援　薄膜・表面物理分科会

プログラム

[20p-H111-1]酸化物薄膜の成膜に向けたミストCVD技術の進展
13:15 〜 14:00
〇藤田 静雄1、金子 健太郎1 （1.京大院工）

[20p-H111-2]ガスソースMBE高品質酸化物薄膜で拓く酸化物エレクトロニクス
14:00 〜 14:30
〇高橋 圭1,2、松原 雄也1,3、村田 智城3、Bahramy Mohammad1,3、小塚 裕介3、Maryenko Denis1、Falson Joseph3、塚崎 敦4、十倉 好紀1,3、川﨑 雅司1,3 （1.理研 CEMS、2.JST さきがけ、3.東大工、4.東北大金研）

[20p-H111-3]放射光X線回折を利用した酸化物ヘテロ構造中の酸素八面体傾斜の評価
14:30 〜 14:45
〇菅 大介1、若林 裕助2、田尻 寛男3、島川 祐一1,4 （1.京大化研、2.阪大基礎工、3.JASRI/SPring-8、4.JST-CREST）

[20p-H111-4]ツイストした三角格子層からなる新層状酸化物薄膜の作製
14:45 〜 15:00
大羽 健太1、〇打田 正輝1、大内 祐貴1、小塚 裕介1、川﨑 雅司1,2 （1.東大工、2.理研CEMS）

[20p-H111-5]鉄系超伝導体の薄膜成長
15:15 〜 16:00
〇生田 博志1 （1.名大工）

[20p-H111-6]トポタクティック反応を用いた複合アニオン酸化物エピタキシー
16:00 〜 16:30
〇近松 彰1 （1.東大院理）

[20p-H111-7]Fe3O4薄膜の酸化還元反応を利用した全固体磁気特性制御デバイス
16:30 〜 16:45
〇土屋 敬志1,2、寺部 一弥2、尾地 真典1、樋口 透1、長田 実2、山下 良之2、上田 茂典2、青野 正和2 （1.東京理大理、2.物材機構）

[20p-H111-8]可視光応答型光触媒材料としてのチタン酸窒化物の理論提案
16:45 〜 17:00
〇(PC)青木 祐太1、斎藤 晋1 （1.東工大理）

[20p-H111-9]半導体の物性予測と物質探索 － 先端計算科学からのアプローチ
17:00 〜 17:30
〇大場 史康1,2 （1.東工大応セラ研・MCES、2.物材機構MI2I）

FIRST announcement of 13th International Conference on
Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures
ACSIN2016
Italy – Rome, October 9-15, 2016

http://www.superstripes.net/acsin2016/

Dear  colleagues,

Following the successful series of ACSIN conferences in Tokyo (ACSIN-9, 2007),
Granada (ACSIN-10, 2009), Saint Petersburg (ACSIN-11, 2011), and Tsukuba (ACSIN-12, 2013).
The year 2016 will mark the 27th anniversary of the ACSIN series and it will
happen in Rome Italy.

The Conference will consist of invited, oral presentations and poster sessions,
which will be organized to address to research frontiers in semiconductor surfaces,
interfaces and nanostructured materials, device physics, bio materials and applications.

ACSIN-2016 will primarily focus on general aspects of materials, surfaces and
interfaces within the topics that are of strong current interest in semiconductor
surface and interface science.

If you intend to participate at the 13th ACSIN 2016 conference and to present
your oral or poster communication,
please register yourself as soon as possible on the web site of the forthcoming
ACSIN-2016 indicating the title and topic of your communication:

http://www.superstripes.net/acsin2016/index.php?option=com_eventbooking&view=register&event_id=1&Itemid=550

Deadline for abstract submission: May 15, 2016

The acceptance information will be distributed by May 30.

We shall continue to consider post-deadline abstracts for poster presentations until July 10 2016.

The book of abstracts will be published as an ebook by Superstripes Press.
We are looking forward to receive your interesting contributions.

Please, fill free to forward this letter to your colleagues.

The chairmen of  ACSIN 2016:
Antonio Bianconi –  RICMASS CNR Rome Italy
Patrick Soukiassian – CEA, Universite de Paris-Sud, France
Augusto Marcelli – INFN-Laboratori Nazionali di Frascati

第44回 薄膜・表面物理セミナー （2016）

詳細 pdf：第44回薄膜・表面物理セミナーポスター

参加登録サイト：  https://annex.jsap.or.jp/limesurvey/index.php/367471/lang-ja

Seeing is believing (百聞は一見にしかず)．．．「見ること」は，自然科学の進歩において常に重要な役割を担ってきました．とりわけ近年の生物学では，生体機能の探索においても可視化の重要性がますます高まっており，研究開発の現場で，最先端のイメージング技術が不可欠となっています．一方，薄膜・表面物理の分野で精力的に研究されている多くのイメージング技術は，高精度，高分解能，高感度といった優れた特徴を有するため，これまで以上に生物学の進展に寄与することが期待されます．そこで本セミナーは，バイオイメージングの分野と薄膜・表面物理の分野との間での交流や研究接点の模索と，これにともなう両分野の発展に繋がることを目指す研究会として企画されました．最先端のバイオイメージング技術について，基礎から応用まで，第一線でご活躍されている講師の方々に最新の研究成果を含めてご講演いただきます．多くの方々のご参加をお待ちしております．

日時：2016年7月29日(金) 10:00–17:30 <受付開始 9:30>

場所：早稲田大学 西早稲田キャンパス 55N号館 1階 大会議室

アクセスマップ ： http://www.waseda.jp/top/access/nishiwaseda-campus

プログラム

参加費： テキスト代，消費税を含む．

* 薄膜・表面物理分科会賛助会社の方は分科会会員扱いといたします．

** 応用物理学会賛助会社の方は，応用物理学会会員扱いといたします．

現在非会員の方でも，参加登録時に薄膜・表面物理分科会 (年会費：正会員：2,200円 (学生・院生：500円)，準会員：3,000円 (学生・院生：500円)) にご入会頂ければ，本セミナーより会員扱いとさせて頂きます．

http://www.jsap.or.jp/join/index.html

より入会登録を行い，会費支払および仮会員番号を取得後，本セミナーにお申込みください．(年会費をセミナー参加費と同時にお振込なさらないでください．)

*** 学生の場合は，会員・非会員の別を問いません．

定員

100名 (定員になり次第締め切ります．)

参加申込期間

2016年4月14日(木)～7月19日(火)

参加申込方法

本ページ上部にある登録フォームから参加登録をお願いします．参加登録完了後，ご連絡頂いた期日までに，下記銀行口座に参加費をお振込みください．原則として参加費の払い戻し，請求書の発行はいたしません．領収書は当日会場にてお渡しいたします．

参加費振込期間

2016年4月14日(木)～7月21日(木)

参加費振込先

三井住友銀行 本店営業部(本店でも可)

普通預金　口座番号：9474715

(社)　応用物理学会薄膜・表面物理分科会

(ｼｬ)　ｵｳﾖｳﾌﾞﾂﾘｶﾞｯｶｲﾊｸﾏｸ・ﾋｮｳﾒﾝﾌﾞﾂﾘﾌﾞﾝｶｶｲ

セミナー内容問合せ先

静岡大学　下村 勝　e-mail: shimomura.masaru@shizuoka.ac.jp

日立ハイテクノロジーズ　古川 貴司　e-mail: takashi.furukawa.rz@hitachi-hightech.com

参加登録問合せ先

応用物理学会 事務局 分科会担当　小田 康代

TEL: 03‐5802‐0863　　FAX: 03‐5802‐6250

e-mail: oda@jsap.or.jp