Monthly Archives: 4月 2018
第１９回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会
第１９回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会のご案内
主催： 応用物理学会・薄膜表面物理分科会
共催： 京都大学大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
協賛： 日本表面真空学会、日本物理学会
標記の研究会を下記の通り開催致しますので，多数の方々のご発表とご参加をお願いしたく，ご案内申し上げます．
日時
２０１８年１２月７日（金）１３：００－８日（土）１５：００
場所
京都大学宇治キャンパス 総合研究実験1号棟4階 HW401
〒611-0011 京都府宇治市五ヶ庄
プログラム [NEW]
内容
低・中・高エネルギーイオン散乱による固体表面・界面の分析，およびイオンビームと固体表面との相互作用． 招待講演：５件，一般講演：１４件．
招待講演として，
Prof. Thomas Osipowicz (National University of Singapore)
“Status of Ion Beam Analysis at CIBA, NUS: Proton Induced Gamma Emission (PIGE), Channeling Contrast Microscopy (CCM) and High Resolution Rutherford Backscattering (RBS)”
Prof. Dae Won Moon (Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology)
“Surface and Interface Analysis of Liquids and Wet Cells with Ion Beam Techniques – Vacuum or Ambient”
清水康雄先生 (東北大学)
“Dopant Behavior in Semiconductor Materials and Nanostructures Analyzed by Atom Probe Tomography”
中嶋薫先生 (京都大学)
“Improvement in Sensitivity to Biomolecules in MeV-SIMS by Adding Gold nanoparticles or Ionic Liquid Matrices”
加田渉先生 (群馬大学)
“Ion Beam Induced Luminescence analysis and imaging system utilizing focused ion microbeam for in-situ diagnostics of radiation induced changes during irradiation”
を予定しています．
懇親会
１２月７日（金）１８：００ カフェレストランきはだ
会費：2,000円程度、（学生・招待講演者・協賛企業無料枠内：無料）
定員
１００名
参加費
応用物理学会 薄膜・表面物理分科会会員 １０００円，
協賛団体会員 ２０００円， 一般 ３０００円， 学生 無料， 招待講演者 無料
講演申込み締め切り：１０月２６日（金） １１月２日（金）（延期しました）
一般講演を申し込まれる場合は、以下のサイトよりお申し込みください．
https://www.t.kyoto-u.ac.jp/fs/nucleng/IonBeamWS2018/abstractsubmission
A4で１頁のアブストラクト（英文）を提出して頂きます．
発表言語は英語（日本語も可（スライドは英語））です.
参加申込み締め切り：１１月１９日（月）
特別研究会に参加を申し込まれる場合は、以下のサイトよりお申し込みください．
https://www.t.kyoto-u.ac.jp/fs/nucleng/IonBeamWS2018/registration
世話人：瀬木利夫（京都大学大学院工学研究科）
連絡先：〒611-0011 京都府宇治市五ヶ庄
京都大学工学研究科原子核工学専攻 瀬木利夫
E-mail: seki@sakura.nucleng.kyoto-u.ac.jp, Tel: 0774-38-3977
宿泊施設の確保は各自でお願いします．
アクセス
京都駅からJR奈良線の各駅停車に乗車し、JR黄檗（おうばく）駅降車 徒歩5分 。(所要時間:35分、240円)
アクセスマップ http://www.uji.kyoto-u.ac.jp/campus/access.html
宇治キャンパスマップ http://www.uji.kyoto-u.ac.jp/campus/map.html
もご覧ください．
更新：2018/4/25
第10回 役に立つ真空技術入門講座のお知らせ
「第10回 役に立つ真空技術入門講座」（日本表面真空学会関西支部主催、薄膜・表面物理分科会協賛）が下記の通り開催されます。
日時
2018年8月23日（木）・24日（金） 9：30～16：50
場 所
大阪電気通信大学 駅前キャンパス
詳細URL
更新：2018/4/19
第3回 「薄膜・表面物理分科会論文賞」および「薄膜・表面物理分科会奨励賞」公募のお知らせ（締切を延長しました）
応用物理学会 薄膜・表面物理分科会では2016年より，当該分野における優れた業績に対して「薄膜・表面物理分科会論文賞」および「薄膜・表面物理分科会奨励賞」をお贈りしております．つきましては，以下の通り候補者を公募いたします．自薦，他薦を問わず，多数の方々からのご応募をお待ちしております．
詳細PDF： 第3回 論文賞・奨励賞募集案内
薄膜・表面物理分科会論文賞
- 表彰の対象は，薄膜・表面物理関連分野の進歩向上に寄与する優秀な原著論文で，2018年7月末日までの2年間に学術刊行物に掲載されたものの著者とする
- すでに公に顕著な賞を受けた論文は候補対象とされない場合がある
- 受賞者は著者全員とし，必ず，薄膜・表面物理分科会会員を含むものとする
薄膜・表面物理分科会奨励賞
- 表彰の対象は，薄膜・表面物理関連分野の進歩向上に貢献すると期待される優れた若手研究者で，2018年7月末日までの1年間に発行された学術刊行物に掲載された原著論文の筆頭著者とする
- 応募時に薄膜・表面物理分科会会員であり，表彰時の3月末時点で満35歳未満の者とする
- すでに公に顕著な賞を受けた論文は候補対象とされない場合がある
提出書類：
- 推薦状（様式自由）のPDFファイル
(1) 対象論文の題目，学術雑誌名，巻，発行年月
(2) 候補者全員の氏名・所属・身分・連絡先（住所，電話番号，電子メールアドレス），および筆頭著者の生年月日（薄膜・表面物理分科会奨励賞の場合）
(3) 推薦人氏名・所属・連絡先（他薦の場合）
(4) 推薦文（400字程度で候補業績の優れた点を簡潔に記述する）
(5) 候補業績に関わる，応用物理学会および当分科会の主催・共催する学術講演会・研究会等での発表状況 - 該当する論文のPDFファイル
書類提出期限：
2018年8月24日（金） 2018年9月30日（日）必着（締切を延長しました）
書類提出方法：
- メールタイトルを「薄膜・表面物理分科会論文賞応募」もしくは「薄膜・表面物理分科会奨励賞応募」として添付ファイルと共に電子メールで提出して下さい． 提出の完了を同委員会事務局からの返信メールにて確認してください．
メール送付先：薄膜・表面物理分科会 表彰選考委員会 hakuhyou@jsap.or.jp
- 諸事情により電子メールでの送付が困難な場合には，その旨を電子メールにて連絡の上，提出する電子ファイルをUSBメモリ等のメディアに収め，以下へ郵送（書留）にて提出してください．
〒113-0031 東京都文京区根津1-21-5 公益社団法人応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 表彰選考委員会宛
贈呈式：
2019年応用物理学会春季学術講演会期間中に行います．
備 考：
各賞の規程については，下記URLをご参照ください．
https://annex.jsap.or.jp/tfspd/award/
更新：2018/4/11