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応用物理学会でのシンポジウム・スクール |
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■1999年春季第46回応用物理学関係連合講演会でのシンポジウム■
| 1 |
シリコン結晶の現況と将来 |
阿部 孝夫 (信越半導体) |
| 2 |
シリコン結晶成長における融液流動と凝固界面制御 |
柿本 浩一 (九大工) |
| 3 |
シリコン融液と石英ガラスの反応と酸素の輸送現象 |
寺嶋 一高 (湘南工大) |
| 4 |
CZシリコン単結晶中の成長時導入欠陥の制御 |
降屋 久、原田 和浩、古川 純 (三菱マテリアルシリコン) |
| 5 |
ウェーハ高温アニールによる結晶欠陥の低減 |
佐野 正和、足立 尚志、定光 信介 (住友金属) |
| 6 |
次世代デバイスから見たシリコンウェーハ |
金田 寛 (富士通) |
| 7 |
シリコンエピタキシャルウェーハの製造技術 |
今井 正人、黛 雅典、井上 和俊、中原 信司、儀間 眞敏 (スーパーシリコン研) |
| 8 |
シリコン結晶材料開発の課題 |
角野 浩二 (新日鐵) |
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