常任幹事

主にプローブ顕微鏡を用いた極限計測・量子マニピュレーション。
息抜きは映画とサウナに楽しいお酒。にっこり笑って、、、！

レーザアブレーション法による酸化物薄膜の作製と評価に関する研究を行っています。趣味は、クラシック音楽鑑賞と近所を一人で自転車で走り回ることでしょうか。

92年筑波大学大学院理工学研究科修士課程修了。同年株式会社東芝研究開発センターに入社。

以来、微細CMOS向け極薄SiO2・SiON・SiN絶縁膜研究開発を経て、高誘電体ゲート絶縁膜の材料・プロセス・膜物性の研究開発に従事。

現在LSI基盤技術ラボラトリー研究主務。加えて以下の委員に就任。

息抜きは、子供と近くの山でハイキング。
IWDTF06副実行委員長
http://home.hiroshima-u.ac.jp/iwdtf/

ゲートスタック07研究会実行・プログラム委員（会計）
工事中。06はこちら→http://home.hiroshima-u.ac.jp/oxide/

以前は表面構造解析をやっていましたが、最近はもっぱら強誘電体にはまっています。息抜きは、行き当たりばったりの散策。

数年ぶりに常任幹事に返り咲くことになりました。再び皆さん(特に伊丹さん)にお世話になります。
新世紀の薄膜表面をしょって立つ….

97年 東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻博士課程 修了．同年理化学研究所 国際フロンティア研究システム基礎科学特別研究員．

00年理化学研究所フロンティア研究システムフロンティア研究員．

03年～現在, 東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻助手．城西大学理学部化学科非常勤講師兼務．

高分子物理学、 および表面科学を専門とし、主に走査プローブ顕微鏡に関連した研究に従事している．

00年日本表面科学会技術賞受賞．博士（工学）

http://west.polymer.titech.ac.jp/~knakaji/

表面反応のメカニズムを研究するツールとして走査プローブ顕微鏡と光学分光を使った研究をすすめています。