常任幹事

半導体集積回路に関わる材料・プロセス技術の研究とともに、半導体量子ドットや金属ナノドットを活用した機能デバイスの開発を進めています。特に、最近は、MIS構造界面の高感度分析に加えて、磁性金属ナノドットを活用した抵抗変化型メモリや、シリコン系量子ドット活用した極微小電子放出源や室温発光素子の開発に取り組んでいます。

表面の世界に入り早30年。 この間自分の趣味のように心向くまま研究してきましたが、 本当に世の中に役に立つプロジェクトをバーンと打ち上げたいと考えています。ただ毎日雑用が、、、 今回常任幹事になり、研究について考える時間が増えることを楽しみにしています。（専門：プローブ顕微鏡、カーボン材料） URL:http://www.toyota-ti.ac.jp/Lab/Zairyo/surface/index.html

大学院のときから探針を作って使うようになり、材料表面界面やデバイスナノ構造を３５年研究してきました。大学での研究と企業での研究・開発を経験して、実用化されるものを世に出すことの重要性と難しさを感じています。（専門：プローブ顕微鏡、ナノ材料・ナノデバイス計測）

「デバイス応用を支える基礎科学」をモットーに、量子化や歪による電子状態の変化の機構解明、巨大電子格子相互作用の機構解明などを表面物理を用いて進めています。表面研究では思いもよらぬ現象に出会うことが多く、表面に出現する多彩な物理を楽しんでいます。分科会での交流を通じ、研究の視野が広がることを楽しみにしています。 URL:http://mswebs.naist.jp/LABs/daimon/staff/takeda/index.html

人工物と細胞・組織の界面における分子プロセスの解析をしています。生体適合性の物理的起源は何か?生体と適合する材料に求められる物性は?という問に答えるために、表面。界面解析手法を開発しています。 URL:http://lab.spm.jp/

グラフェンや関連2次元材料の成長と応用を研究しています。分科会の皆様との交流を通して知見を広げていきたいと思っております。 URL: http://www.brl.ntt.co.jp/people/ssuzuki/index.html

SiC半導体を用いた極限環境エレクトロニクスと、シリコン薄膜トランジスタの研究を進めています。宇宙や深地下などの新しいフロンティア開拓や、原子力発電所の廃炉技術への応用、医療応用を目指して、放射線曝露下や超高温環境でも動作するSiC集積回路・センサーの研究を進めています。 URL: http://www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/

トライボロジー現象の理解のため、表面分析機器と摩擦試験機を組み合わせたその場観察装置を利用して、埋もれた摩擦界面での物理化学現象の解明に向けた取り組みを進めています。 URL:https://unit.aist.go.jp/am-ri/ja/teams/sid/ja/index.html

大学では実験装置の立上げ・製作等を行い炭素系薄膜やシリコン系薄膜を形成し、それらの表面および界面のXPSによる構造評価等に関する研究を行いました。日新電機入社以降も半導体・液晶関連製造装置の開発やプロセス開発、形成した薄膜やナノ材料の表面・界面の構造評価等を行って参りました。最近は研究部門の中長期ビジョンの策定やテーマの仕込み、FS等に従事しています。

レーザMBE法等を用いた機能性酸化物（誘電体、磁性体、半導体）薄膜・人工格子関連研究。酸化物エレクトロニクス・フォトニクスによる電子デバイス、バイオセンサ関連研究に従事。 URL:http://www.bioxide.t.u-tokyo.ac.jp/index.html

酸化物などワイドバンドギャップ半導体の導電性（伝導型やキャリア輸送）制御や理解を目的としています。酸化物特有の凝集現象の解明と機能設計に向けた取り組みを、成膜装置や表面分析装置の開発と共に第１原理電子構造計算結果などを基に進めています。

表面分析及び電子顕微鏡等を用いて，先端CMOSの材料及びプロセス開発を行ってまいりました。 近年は，異種デバイスの2･3次元集積プロセスの開発に従事しています。 日本の半導体産業や電機業界に再び栄光の日が訪れることを夢見ています。 いつも「過去の自分より少しだけ優れていたい!!」と思っています。 (専門分野：半導体プロセス&材料，電子分光，D-SIMS，電子顕微鏡[TEM/STEM，FIB]）