常任幹事

レーザMBE法等を用いた機能性酸化物（誘電体、磁性体、半導体）薄膜・人工格子関連研究。酸化物エレクトロニクス・フォトニクスによる電子デバイス、バイオセンサ関連研究に従事。
URL:http://www.bioxide.t.u-tokyo.ac.jp/index.html

ナノテクノロジーとバイオの技術を融合した新しいナノバイオデバイスの創生に取り組んでいます。シリコン基板上で、人工脂質膜や膜タンパク質を生体内のように機能させたデバイスを目指しています。
URL: http://www.eng.u-hyogo.ac.jp/faculty/sumitomo/index.html

主にナノエレクトロニクス応用に向けたⅣ族半導体材料の薄膜結晶成長や界面物性制御に関する研究開発に携わっています。
URL: http://alice.xtal.nagoya-u.ac.jp/nanoeledev/

主に遷移金属酸化物を用いてナノエレクトロニクスの研究を行っています。
電場やひずみなどの外場により、無電力物性制御や超高感度センシングを軸に従来にない新奇デバイス創製を目指しています。

主にSPring-8において軟X線放射光を利用した材料プロセスや表面化学の研究を進めています。物質・材料科学、ナノテクノロジー研究を分野横断的に展開するとともに、次世代の分析・観察および解析法の実現を目指しています。

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(株)東レリサーチセンター入社後は長らく表面分析に関わっておりました。XPS、SIMSに加え、放射光を用いたXAFSも専門としています。対象材料としては、半導体材料（特に絶縁膜）や自動車関連材料（排ガス触媒）の担当が長く、材料科学の観点から表面状態を考えるようにしています。現在は、研究担当から離れ、技術開発企画の立場で業務をしております。

薄い絶縁膜の研究に長らく携わっており、光電子分光法や走査プローブ顕微鏡による構造解析、MOSデバイスの電気特性評価などを中心に活動してきました。最近では、絶縁膜界面を利用した新しい不揮発メモリを提案し、ニューロモルフィック応用の可能性に興味を持っております。

前身の金属材料技術研究所に入所以来、真空材料開発、コーティング技術、表面分析等に取り組んできました。現在は主としてナノデバイス開発からガスタービン技術まで幅広い分野で国内外の企業との共同研究推進のコーデイネート業務に携わっております。
URL: https://samurai.nims.go.jp/profiles/tosa_masahiro

金属酸化物の表面改質に取り組んでいます。そして、作製した表面改質材料をもちいた生体高分子の吸着にも取り組んでます。無機材料界面だけでなく無機―有機材料の界面も研究テーマとしております。

高誘電率薄膜、強誘電体薄膜を用いたSiトランジスタ、有機半導体トランジスタの研究に従事。
URL: http://www.sdm.ee.e.titech.ac.jp

学生時代には、主に高分解能ARPES装置の開発を行っていました。その後、現在に至るまで、この「みる」技術と酸化物分子線エピタキシーという「つくる」技術とを融合することで酸化物の類い希な物性を設計・制御しながら、新しい機能性ナノ物質の開拓を行っています。
URL: http://www2.tagen.tohoku.ac.jp/lab/kumigashira/html/index.html

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液中原子間力顕微鏡（AFM）技術の開発とそれを用いたナノスケール固液界面研究に幅広く取り組んでいます。特に、高速周波数変調AFMによる結晶成長・溶解機構の研究や、３次元AFMによる界面分子構造や生命システムの３次元構造解析、液中電位分布計測技術を用いた腐食・触媒反応解析などに取り組んでいます。