近年、有機ELの普及が進み、また、シリコンに迫る効率のペロブスカイト太陽電池が報告され、フレキシブルデバイスの更なる実用化への機運が高まっています。これらの薄膜デバイスの作製プロセスにおいて、しばしば対立軸となるのが、溶液塗布と真空蒸着、ドライプロセスとウェットプロセスの違いです。一方で、両者の利点を共に活かすために、真空プロセスにウェットな効果を持ち込んだり、あるいは逆に、溶液プロセスに真空プロセスの利点を持ち込んだりする、ドライとウェットとの間の特徴を持つ様々な成膜技術が研究開発されています。そこで、M&BE分科会では、このようなドライとウェットを繋ぐ薄膜成長・デバイス作製プロセス技術に関する基礎から最新の応用について、有機・無機を問わず、包括的な情報を提供する場として本講習会を企画します。

日時：     2017年11月22日（水）

場所：     東京理科大学 森戸記念館 第2フォーラム （70名）

〒162-8601 東京都新宿区神楽坂4-2-2 http://www.tus.ac.jp/facility/morito/

■　プログラム　（タイトル、詳細な時間は変更の可能性があります）

10:00～10:05

～開会の挨拶～

東京農工大学・嘉治寿彦

10:05～11:10

【基調講演】固液界面真空プロセスが拓く新しいものづくり技術

東北大学・松本祐司

11:15～12:00

自己組織化膜と蒸着重合の組み合わせによる高分子製膜と界面制御

東京農工大学・臼井博明

～昼食～

13:10～13:55

真空蒸着中の液体導入による薄膜成長制御と混合膜の結晶化

東京農工大学・嘉治寿彦

14:00～14:45

インクを用いないトナー型プリンテッドエレクトロニクス

千葉大学・酒井正俊

～休憩～

15:00～15:45

インクジェット法とマイクロコンタクトプリンティング法を用いた微細薄膜パターン形成

慶應大学・野田啓

15:50～16:35

超希薄溶液気相濃縮スプレイ法（ESDUS)による有機エレクトロニクスの展開

九州大学・藤田克彦

～休憩～

16:50～17:35

静電塗布法を利用した有機薄膜の成膜技術の基礎と応用

埼玉大学・福田武司

17:40～18:25

ミストCVD法・ミストデポジション法による薄膜作製とその応用

津山高専・香取重尊

18:25～18:30

～閉会の挨拶～

東京医科歯科大学・當麻浩司

18:40～

懇親会

■　参加費・テキスト代（消費税含む）

^＊予めご入会頂けると同額あるいは割安でご参加頂ける場合がありますので、この機会にM&BE分科会へのご入会をご検討下さい。

詳しくは下記分科会担当（白石）までお問い合わせ下さい。

^＊＊懇親会参加費：実費4,000円／当日お支払い下さい．

■　定員：70名

■　申し込み方法：

以下のWEBフォームからお申込みください。

https://annex.jsap.or.jp/limesurvey/index.php/187925/lang-ja

■　申し込み〆切／参加費振込〆切：11月15日（水）

■　内容問合せ先：

嘉治寿彦（東京農工大学）

E-mail: kaji-t@cc.tuat.ac.jp

■　参加問合せ先：

応用物理学会　分科会担当　白石

E-mail: shiraishi@jsap.or.jp

■　講習会世話人：

嘉冶寿彦　　（東京農工大学）

當麻浩司　　（東京医科歯科大学）

赤池幸紀　　（東京理科大学）

香取重尊　　（津山工業高等専門学校）