2025年10月17日(金)に第27回 講演会＆第3回育成WGチュートリアル＆第39回カサロス(懇親会)を四ツ谷にて開催します．皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております．[案内チラシ]

■講演タイトル
　●第27回 講演会
　　招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
　　講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
　　講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)
　●第3回育成ワーキンググループ
　　「分子動力学シミュレーション：液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)

■日時：2025年10月17日(金) 13:00～17:15
■場所：プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加費：(学生無料)
　一般　4,500円
　応用物理学会会員 3,000円
■カサロス(懇親会)
　時間 17:30～19:30
　場所 プラザエフ(同じ建物)　
　会費 6,000円(学生無料)
■申込締切：2025年9月15日(月・祝) 17:00
■申込方法
参加申込先URLもしくはQRコードより，「講演会・育成WG」と「カサロス」のそれぞれに申し込みをお願いします．お支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済「イベントペイ」のみとなります．
【育成WG・ポスター発表展】
　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=0007087428
【カサロス（懇親会）】
　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=5570092682