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第27回講演会&第3回育成WGチュートリアル&第39回カサロス(2025.10.17四ツ谷) 参加者募集

2025年10月17日(金)に第27回 講演会&第3回育成WGチュートリアル&第39回カサロス(懇親会)を四ツ谷にて開催します.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.[案内チラシ]

■講演タイトル
 ●第27回 講演会
  招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
  講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
  講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)
 ●第3回育成ワーキンググループ
  「分子動力学シミュレーション:液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)

■日時:2025年10月17日(金) 13:00~17:15
■場所:プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加費:(学生無料)
 一般 4,500円
 応用物理学会会員 3,000円
■カサロス(懇親会)
 時間 17:30~19:30
 場所 プラザエフ(同じ建物) 
 会費 6,000円(学生無料)
■申込締切:2025年9月15日(月・祝) 17:00
■申込方法
参加申込先URLもしくはQRコードより,「講演会・育成WG」と「カサロス」のそれぞれに申し込みをお願いします.お支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済「イベントペイ」のみとなります.
【育成WG・ポスター発表展】
 https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=0007087428
【カサロス(懇親会)】
 https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=5570092682

第6期活動開始

本研究会は新体制のもと,第6期(2025.1~2027.12予定)の活動に入りました.

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り,岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ,本日(2024.11.8),2名の方へ貢献賞を授与しました.[授賞式での紹介スライド]

SCREENホールディングス 荒⽊ 浩之 様
2006年の第1回活動から中心となり活動を支えていただきました.その後ほぼ全ての活動(学会時の活動はもちろん、暗黙知の共鳴場としてワーキンググループ活動、ポスター発表展、フォーラムなども)について牽引役を担っていただき,研究会の発展に大きく寄与されました.

静岡大学 真田 俊之 先生
企業メンバー中心であった当研究会の委員⻑を⻘⽊先⽣の跡を引継ぎ9年間3期にわたり務めながら,献身的な活動の成果により徐々に大学の先⽣⽅も参加いただけるようになり,更なる発展に寄与されました.

規程改正のおしらせ

2022.4.27付で当研究会の規程を改正しました.主な変更点は以下の通りです.
・第14条 アドバイザー選出方法の明文化
・第18条 講演謝礼の支出金額に上限を設定
改正後の規定はこちらからご参照下さい.

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第5期活動開始

本研究会は新体制のもと,第5期(2022.1~2024.12予定)の活動に入りました.

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)