今回は，熊本大学 大平慎一先生，北陸先端科学技術大学院大学 高村禅先生をお招きし，「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」と題して，両先生方のご講演，その後議論を行います．また，INEは半導体ウェット領域での活動が主としていますが，今回はSEAJウェーハプロセス専門委員会と合同開催とし，半導体業界でも領域の違う技術者と交流・議論を深め，参加者間のネットワークを広げることを目的としています．
■日時：2026年5月20日(水) 14:00～17:00
■場所：Rise-A 東京都中央区⽇本橋室町1-7-1 スルガビル7階
東京メトロ三越前駅A1出口から徒歩1分/東京駅から徒歩12分
https://www.rise-a.jp/access/index.html
■テーマ：「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」
招待講演者(それぞれ40分の御講演予定)
国立大学法人 熊本大学 大平慎一 副学長
国立大学法人 北陸先端科学技術大学院大学 高村 禅教授
■会費：無し(懇親会代は別途徴収)
■ファシリテータ：
INE）キオクシア 吉水康人，SCREEN 佐藤雅伸
SEAJ）SCREEN 増本哲己
■参加要件：
・WGは討論会形式を採用しておりますので，積極的に議論へ加わってください．
・参加者には次回以降のファシリテータやWG運営等をお願いします．
■定員：20名 (希望者多数の場合，制限する場合がございます．予めご了承ください．)
■申込方法：以下のURLもしくは添付QRコードからMicrosoft Formsにアクセスし，必要事項の入力をお願いします．
https://forms.cloud.microsoft/r/hLpCqDdVXL
■懇親会：ワークショップ参加申込者に別途ご案内します．
■申込締切：2026年4月19日12時
定員に達する前の早めお申し込みがおススメです．
■INE会員参加申し込みについて
INE会員への登録を希望される場合は，規程をご確認の上，問い合わせ先にご連絡ください．https://annex.jsap.or.jp/kaimen-nano/wp201911/wp-content/uploads/2022/05/rule_INE_20220427.pdf
「ワーキンググループ」カテゴリーアーカイブ
第27回講演会＆第3回育成WGチュートリアル(2025.10 四ツ谷)
2025年10月17日(金)に第27回 講演会＆第3回育成WGチュートリアルを四ツ谷にて開催しました．
■ 第27回 講演会
招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)
■ 第3回育成ワーキンググループ
「分子動力学シミュレーション：液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)
■日時：2025年10月17日(金) 13:00～17:15
■場所：プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加者数：約90名
■案内： 案内パンフレット
育成WG 第2回 「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」(2025.6 昭島)
育成ワーキンググループとして，第9回ポスター発表展当日の午前中に，静岡大 真田先生より流体力学の基礎について講義を行って頂きました．
■2025年6月20日(金) 10:25-12:30
■場所：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市)
■チュートリアル
「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」
真田俊之教授 (静岡大学学術院工学専攻)
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第5回 「半導体とバイオサイエンスにおけるナノ界面現象の共通点」(2025.1 田町)
国立研究開発法人 理化学研究所から上級研究員 田中信行様と専任研究員 二本柳聡史様をお招きし，「半導体とバイオサイエンスにおけるナノ界面現象の共通点」をテーマに議論を行いました．
■2025年1月23日(水) 13:30-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
キオクシア 吉水康人
SCREEN 佐藤雅伸
■参加者数：19名
第26回講演会 ＆ 第1回 育成WG チュートリアル ＆ ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)
【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．2016年からは更なる発展のために，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました．コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが，今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました．”歴史を学ぶ，先端プロセスを知る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．
日時：2024年11月8日(金)12:45 ～ 9日(土)12:10
会場： ダイキンアレス⻘⾕
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット
1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)
2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表
育成WG 第0回 「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」(2023.11 千駄ヶ谷)
育成ワーキンググループ活動開始のプレイベントとして，第8回ポスター発表展当日の午前中に，京大 深見先生より電気化学の基礎について講義を行って頂きました．
■2023年11月27日(月) 10:25-12:30
■場所：ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷)
■チュートリアル
「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」
深見一弘 先生 (京都大学 大学院 工学研究科)
■参加者数：78名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第4回 「シン・IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」(2023.6 田町)
2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り，「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について，この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました．
■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
キオクシア 吉水康人
オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第3回 「回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション」(2023.5 田町)
SCREEN セミコンダクターソリューションズの佐藤様より，回転基板(ウェハ)上の流動解析についてご講演頂いた上で，界面における水の挙動について議論しました．
■2023年5月19日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 佐藤雅伸 様
「 回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション 」
■ ファシリテータ：
キオクシア 吉水康人
オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第2回 「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」(2023.3 田町)
物質・材料研究機構(NIMS)の重藤様より，低温＆非真空ハイブリッド接合技術についてご講演頂いた上で，接合時における水分子の役割について議論しました．
■2023年3月10日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
物質・材料研究機構 重藤暁津 様
「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」
■ ファシリテータ：
オルガノ 矢野大作
キオクシア 吉水康人
■参加者数：17名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第1回 「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジーの深掘り」(2023.2 田町)
2022年12月にINE Linkにてご講演頂きました日立ハイテク 大竹様に再登壇頂き，水の機能と役割について，より深い議論を行いました．
■2023年2月17日(金) 14:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
日立ハイテク 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」の深掘り
■ ファシリテータ：
東京エレクトロン九州 中森光則
キオクシア 吉水康人
■参加者数：23名
