2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り,「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について,この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました.
■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所:キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ:
キオクシア 吉水康人
オルガノ 矢野大作
■参加者数:21名
■2020年1月29日(水)
■場所:キオクシア 渋谷オフィス
■内容
「固液気三界面に関する液体の乾燥および固体表面への物質吸着現象の理解を深める」
■ ファシリテータ:
キオクシア 吉水康人,中岡聡
日時:2019年10月25日(金) 11:00~17:00
場所:キオクシア 渋谷オフィス
プログラム:
「分子動力学計算によるSi-O-H新水面における水とIPAの挙動について」
参加者:26名
日時:2019年8月30日(金) 11:00~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
「液挙動に対するメカニズムを理解する」接触角,後退接触角,表面張力について
参加者:26名
日時:2019年7月4日(木) 13:00~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考」
参加者:20名
日時:2019年6月21日(金) 13:00~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
「 “綺麗”ではない乾燥とは? 」
参加者:20名