2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り，「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について，この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました．

■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名

SCREEN セミコンダクターソリューションズの佐藤様より，回転基板(ウェハ)上の流動解析についてご講演頂いた上で，界面における水の挙動について議論しました．

■2023年5月19日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 佐藤雅伸 様
「 回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション 」
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名

物質・材料研究機構(NIMS)の重藤様より，低温＆非真空ハイブリッド接合技術についてご講演頂いた上で，接合時における水分子の役割について議論しました．

■2023年3月10日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
物質・材料研究機構 重藤暁津 様
「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」
■ ファシリテータ：
　オルガノ 矢野大作
　キオクシア 吉水康人
■参加者数：17名

2022年12月にINE Linkにてご講演頂きました日立ハイテク 大竹様に再登壇頂き，水の機能と役割について，より深い議論を行いました．

■2023年2月17日(金) 14:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
日立ハイテク 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」の深掘り
■ ファシリテータ：
　東京エレクトロン九州 中森光則
　キオクシア 吉水康人
■参加者数：23名

■2020年1月29日(水)
■場所：キオクシア 渋谷オフィス
■内容
「固液気三界面に関する液体の乾燥および固体表面への物質吸着現象の理解を深める」
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人，中岡聡

日時：2019年11月13日(水) 13：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考２」
参加者：23名

日時：2019年10月25日(金) 11：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「分子動力学計算によるSi-O-H新水面における水とIPAの挙動について」
参加者：26名

日時：2019年8月30日(金) 11：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「液挙動に対するメカニズムを理解する」接触角，後退接触角，表面張力について
参加者：26名

日時：2019年7月4日(木) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考」
参加者：20名

日時：2019年6月21日(金) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「 “綺麗”ではない乾燥とは？ 」
参加者：20名