第70回応用物理学会春季学術講演会にて，一般公開シンポジウム「就活生必見!! 日本が止まると世界が止まる！ 私たちの半導体レジェンド技術」を開催しました．また，終了後，同会場にて「学生のためのランチョンセミナー」，夜にはSEAJとINEの合同懇親会を開催しました．

公開シンポジウム
日時：2023年3月17日(金) 9:30-12:05
場所：上智大
資料：案内パンフレット
主催：応用物理学会・SEAJ日本半導体製造装置協会
企画：INE界面ナノ電子化学研究会・インダストリアルチャプター

第68回応用物理学会春季学術講演会にて，一般公開シンポジウム「就活生必見！Withコロナ時代に加速するDXに欠かせない半導体」「基調講演者・シンポジウム講演者・半導体業界で働く企業人とのフリータイム交流会」を開催しました．

公開シンポジウム

日時：2021年3月18日(木) 9:50-12:10
場所：オンライン
資料：案内パンフレット
主催：応用物理学会・SEAJ日本半導体製造装置協会
企画：界面ナノ電子化学研究会・インダストリアルチャプター

フリータイム交流会

日時：2021年3月18日(木) 12:10-13:30
場所：オンライン
資料：案内パンフレット
企画：応用物理学会・SEAJ日本半導体製造装置協会・界面ナノ電子化学研究会・インダストリアルチャプター

2016年1月5日に当研究会メンバーが茨城県東海村のCROSS東海(総合科学研究機構 東海事業センター )およびJ-PARC(大強度陽子加速器施設)を訪問しました．J-PARCでは世界最高クラスの陽子ビームで生成する2次粒子(中性子・ミュオン・K中間子・ニュートリノなど)を用いた様々な実験を行うことができ，界面現象の解明にも用いられています．大学研究機関はもちろんのこと，民間企業の利用も可能とのことですので，何か課題があれば一度CROSS東海へご相談されてみてはいかがでしょうか．

本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：「ナノの課題を見極める～問題解決プロセス～ 」をテーマに，参加者からの意見を募りながら相互に議論することを目的とするセミナーを開催します．日頃疑問に思う事の解明のヒントや問題解決のアプローチとして参考にして頂けると期待しています．
日時：2014年12月2日（火）15:00～17:30
場所：関東化学株式会社
講師：京都工芸繊維大学 伝統みらい教育研究センター 特任教授 黒田孝二先生
プログラム：
(1)「学」から見た界面 真田俊之
(2)「産」現場の界面課題抽出 荒木浩之
(3)「学」と「産」印刷現場の液体の動きと動的な濡れ挙動 黒田孝二
(4)クロージング 真田俊之
懇親会：18:00～20:00

洗浄総合展 2014に当研究会が展示ブースを出展しました．
【日時】10月15日～17日
【会場】国際展示場

日時：2012年7月6日(金) 19:30～22:30
場所：品川 PRONTO
参加人数：30人

本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：本セミナーは，若手技術者に半導体生産工程における「チャージアップ現象」の基礎を理解いただくとともに，半導体先端デバイス生産現場におけるチャージアップの影響について紹介し，大学においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供します．
後援：大日本スクリーン製造株式会社
日時：2011年12月6日（火）13:00～16:30
場所：新宿文化センター4F第1会議室
プログラム：
①13:00～13:05「開会の辞」真田俊之(静岡大学)
②13:05～13:15「チャージアップの問題点」田中盛光(ルネサスエレクトロニクス)
③13:15～13:25「水のチャージアップWG活動紹介」宮城雅宏(大日本スクリーン製造)
④13:25～14:05「研究紹介」八塚京子(山形大学)
⑤14:05～14:45「研究紹介」下川博文(神奈川工科大学)
⑥15:00～15:40「チャージアップの基礎と対策（仮題）」藤江昭雄(ESDコンサルタント)
⑦15:40～16:20「チャージアップの基礎と対策（仮題）」鈴木政典(テクノ菱和)
⑧16:20～16:30「閉会の辞」矢野大作(オルガノ)
⑨17:00～19:00「懇親会」

日時：(不明)
場所：(不明)
プログラム：
「MOSFET性能と洗浄技術」冨田寛(東芝)
「物理洗浄概説と蒸気2流体への応用」真田俊之(静岡大学)
「二流体ジェット洗浄と溶存ガス水メガソ洗浄」菅野至(ルネサスエレクトロニクス)
パネルディスカッション「物理洗浄の本質に迫る」モデレーター 佐藤雅伸(大日本スクリーン製造)