【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．おかげさまで，今年で設⽴20周年を迎えることとなりました．本研究会のさらなる発展を目指し，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成などを目的として，この度，合宿形式の「界面ナノ電子化学研究会フォーラム（INEF2026）」（
第28回講演会 ）を開催する運びとなりました．”歩みを⼒に、今を誇りに、未来を創る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．

日時：2026年6月19日(金)12:45 ～ 20日(土)12:00
会場： 琵琶湖グランドホテル・京近江
参加人数：約100名
資料：案内パンフレット

1⽇⽬
■招待講演「界面ナノ電子化学研究会 誕⽣から成⻑、そして未来へ」
　荒木浩之 様 (SCREENホールディングス)
■招待講演「物理博⼠卒から企業の研究所へ、そして大学へ ― 私の歩んだ30年」
　為近恵美 先⽣ (横浜国⽴大学)
■第10回ポスター発表展
■第41回カサロス(懇親会)

2⽇⽬
■招待講演「ナノ空間界面が支配する分子輸送とバイオ分子計測」
　山本晃毅 様 (理化学研究所)
■招待講演「界面流体の新たな計測・制御・理解に向け」
　元祐昌廣 先⽣ (東京理科大学)
■招待講演「界面ナノプロセスの極限性能評価を拓く超精密表面計測」
　有馬健太 先⽣ (大阪大学)