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第42回カサロス(2026.9.10札幌) 参加者募集

2026年9月10日(木)に第42回 カサロス(懇親会)を開催します．

■日時：2026年9月10日(木) 18:30～20:30
■会場：キリンビール園 アーバン店
■参加費：一般 7,000円　(学生 無料)
■参加申込：URL(イベントペイ)からお申し込みをお願いします
　 https://eventpay.jp/event_info?shop_code=0672069005389223&EventCode=C539762709
■申込期限：2026年8月10日(月)17時迄

シンポジウム開催のお知らせ(2026.9.10 札幌)

界面ナノ電子化学研究会は9月に北大にて開催される応用物理学会第87回秋季学術講演会中にシンポジウム(第29回講演会)を開催する運びとなりました．本シンポジウムでは，次世代半導体製造を取り巻く国際情勢を俯瞰した上で，半導体ウェットプロセスにおける表面・界面現象，静電気現象，物理洗浄技術，分子シミュレーション，インクジェット洗浄技術など，最新の研究開発動向についてご講演いただく予定です．ぜひご参加ください．

■テーマ：次世代半導体戦略を支える界面ナノ電子化学 ～国際情勢から最新ウエットプロセスまで～
■シンポジウム日時：2026年9月10日(木) 13:30～17:00
■招待講演者：(順不同)
　太田 泰彦 先生 (北海道大学)
　南 輝臣 様 (東京エレクトロン)
　宮田 正靖 様 (キオクシア)
　鈴木 涼平 様 (ソニーセミコンダクタソリューションズ)
　佐藤 雅伸 様 (SCREENセミコンダクターソリューションズ)
　土屋 雄貴 様 (リコー)

北海道大学の太田泰彦先生は，半導体をめぐる地政学・国際情勢に精通され，『2030 半導体の地政学』の著者としても広く知られています．また，北海道大学において半導体と国際情勢を結び付けた教育・発信にも取り組まれており，本シンポジウムでは「半導体で国際情勢を読む」と題してご講演いただく予定です．

第5回界面ナノ電子化学研究会フォーラム INEF2026開催のお知らせ(2026.6.19～20滋賀県大津市)

界面ナノ電子化学研究会は，半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学の関係者の皆様とともに，半導体製造プロセスの学術的な解明と発展に貢献してまいりました．おかげさまで，今年，設立20周年を迎えることとなりました．
本研究会のさらなる発展を目指し，活発な議論，関係者の交流，若手技術者の育成などを目的として，この度，合宿形式の「界面ナノ電子化学研究会フォーラム（INEF2026）」を開催する運びとなりました．開催は2026年6月19日(金)から20日(土)にかけて，滋賀県の琵琶湖のほとりを予定しています．[詳細はこちら]
久々に合宿形式で皆様と深く議論できる機会となります．ポスター発表展も同時開催しますので，ご参加・ポスター発表のご予定を確保いただけると幸いです． 招待講演やカサロス(懇親会)なども企画しています．お楽しみに！

【 開催概要 】
■日時：2026年6月19日(金)PM～20日(土)AM
■場所：琵琶湖グランドホテル・京近江(滋賀県大津市雄琴)
■参加費：会員種別、申込日によって異なりますので添付案内をご参照下さい
■申込締切：早期割引4月24日まで、 最終締切5月14日まで
■開催内容：招待講演、ポスター発表展、懇親会(カサロス)
■申込先：下記イベントペイよりお申し込み下さい
https://eventpay.jp/event_info?shop_code=0672069005389223&EventCode=C928179008

【ポスター発表展について】
発表募集は締め切りました．
INEF2026の企画内で，第10回ポスター発表展を同時開催いたします．詳細は件名「【INE】【第10回ポスター展参加者募集】界面ナノ電子化学研究会 第10回 ポスター展のお知らせ」のメールをご確認ください．皆様からの発表エントリーをお待ちしております．
■発表エントリー締切 ：4月24日(申込多数の場合は早期に締め切らせて頂く場合があります)

【ノベルティ募集について 】
参加者へ各種資料と共に，ノベルティを配布します．ノベルティ商品をご提供頂ける企業様はお知らせ頂ければ幸いです．
ノベルティグッズ募集フォーム – フォームに記入する



第27回講演会＆第3回育成WGチュートリアル(2025.10 四ツ谷)

2025年10月17日(金)に第27回 講演会＆第3回育成WGチュートリアルを四ツ谷にて開催しました．

■ 第27回 講演会
　招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
　講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
　講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)

■ 第3回育成ワーキンググループ
　「分子動力学シミュレーション：液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)

■日時：2025年10月17日(金) 13:00～17:15
■場所：プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加者数：約90名
■案内： 案内パンフレット

INE特別ワークショップ「半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象」(2025.7 日本橋)

INE特別ワークショップとして，三菱商事 村上一馬様，横河ソリューションサービス 布施理様と一緒に，宇宙と半導体をテーマに議論を行いました．

■日時：2025年7月18日(金) 13:00～17:00
■場所：X-NIHONBASHI BASE 日本橋アイティビル 3F
■テーマ：半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象
■ファシリテータ：東京エレクトロン九州 中森光則
■参加者数：約20名

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り，岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ，本日(2025.6.20)，次の方へ貢献賞を授与しました．[授賞式での紹介スライド]

長瀬産業株式会社 橋本和之 様
研究会発足前より指南役として研究会の立ち上げに大きく寄与されました．発足後もほぼ全ての活動（紹介スライドの学会活動・ポスター発表展・フォーラム・カサロス）についてけん引役を担っていただき，特にポスター展での会場提供による交流環境の創出を携わり，研究会の発展に大きく寄与されました．

育成WG 第2回 「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」(2025.6 昭島)

育成ワーキンググループとして，第9回ポスター発表展当日の午前中に，静岡大 真田先生より流体力学の基礎について講義を行って頂きました．

■2025年6月20日(金) 10:25-12:30
■場所：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市)
■チュートリアル
　「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」
　真田俊之教授 (静岡大学学術院工学専攻)

第9回ポスター発表展 (2025.6 昭島)

■日時：2025年6月20日(金) 13:30～17:15
■会場：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市) 現地開催のみ
■参加者：117名
■ 資料：案内パンフレット

13:15～13:30「開会挨拶」岩元委員長 / 「KIH施設紹介」
13:30～14:40「ポスターセッション：ライトニングトーク」
14:50～16:40「ポスターセッション：ディスカッション」
16:40～17:25「KIH施設案内」
17:25～17:35「INE活動報告」 吉水副委員長
17:35～17:45「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長

本ポスター発表展にて，優秀講演賞に鈴木涼平氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)が選ばれました．また，本ポスター発表展当日の午前中は第2回 育成WG，終了後には第38回カサロス(懇親会)を開催しました．