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第5回界面ナノ電子化学研究会フォーラム INEF2026開催のお知らせ(2026.6.19～20滋賀県大津市)

界面ナノ電子化学研究会は，半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学の関係者の皆様とともに，半導体製造プロセスの学術的な解明と発展に貢献してまいりました．おかげさまで，今年，設立20周年を迎えることとなりました．
本研究会のさらなる発展を目指し，活発な議論，関係者の交流，若手技術者の育成などを目的として，この度，合宿形式の「界面ナノ電子化学研究会フォーラム（INEF2026）」を開催する運びとなりました．開催は2026年6月19日(金)から20日(土)にかけて，滋賀県の琵琶湖のほとりを予定しています．
詳細は改めてご案内いたしますが，久々に合宿形式で皆様と深く議論できる機会となります．ポスター発表展も同時開催しますので，ご参加・ポスター発表のご予定を確保いただけると幸いです． 招待講演やカサロス(懇親会)なども企画しています．お楽しみに！

【 開催概要 】
■開催日：2026年6月19日(金)～20日(土)
■開催場所：「琵琶湖グランドホテル・京近江」滋賀県大津市雄琴

第27回講演会＆第3回育成WGチュートリアル(2025.10 四ツ谷)

2025年10月17日(金)に第27回 講演会＆第3回育成WGチュートリアルを四ツ谷にて開催しました．

■ 第27回 講演会
　招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
　講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
　講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)

■ 第3回育成ワーキンググループ
　「分子動力学シミュレーション：液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)

■日時：2025年10月17日(金) 13:00～17:15
■場所：プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加者数：約90名
■案内： 案内パンフレット

INE特別ワークショップ「半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象」(2025.7 日本橋)

INE特別ワークショップとして，三菱商事 村上一馬様，横河ソリューションサービス 布施理様と一緒に，宇宙と半導体をテーマに議論を行いました．

■日時：2025年7月18日(金) 13:00～17:00
■場所：X-NIHONBASHI BASE 日本橋アイティビル 3F
■テーマ：半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象
■ファシリテータ：東京エレクトロン九州 中森光則
■参加者数：約20名

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り，岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ，本日(2025.6.20)，次の方へ貢献賞を授与しました．[授賞式での紹介スライド]

長瀬産業株式会社 橋本和之 様
研究会発足前より指南役として研究会の立ち上げに大きく寄与されました．発足後もほぼ全ての活動（紹介スライドの学会活動・ポスター発表展・フォーラム・カサロス）についてけん引役を担っていただき，特にポスター展での会場提供による交流環境の創出を携わり，研究会の発展に大きく寄与されました．

育成WG 第2回 「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」(2025.6 昭島)

育成ワーキンググループとして，第9回ポスター発表展当日の午前中に，静岡大 真田先生より流体力学の基礎について講義を行って頂きました．

■2025年6月20日(金) 10:25-12:30
■場所：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市)
■チュートリアル
　「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」
　真田俊之教授 (静岡大学学術院工学専攻)

第9回ポスター発表展 (2025.6 昭島)

■日時：2025年6月20日(金) 13:30～17:15
■会場：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市) 現地開催のみ
■参加者：117名
■ 資料：案内パンフレット

13:15～13:30「開会挨拶」岩元委員長 / 「KIH施設紹介」
13:30～14:40「ポスターセッション：ライトニングトーク」
14:50～16:40「ポスターセッション：ディスカッション」
16:40～17:25「KIH施設案内」
17:25～17:35「INE活動報告」 吉水副委員長
17:35～17:45「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長

本ポスター発表展にて，優秀講演賞に鈴木涼平氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)が選ばれました．また，本ポスター発表展当日の午前中は第2回 育成WG，終了後には第38回カサロス(懇親会)を開催しました．

第9回 INE Link「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」(2025.5 オンライン)

横河ソリューションサービス 布施理様にご講演をお願いし，半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題について議論しました．

■日時
2025年5月7日(水) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
横河ソリューションサービス株式会社 半導体ビジネスセンター ビジネス推進部 技術コンサルティングGr
布施理 様
「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」
YOKOGAWAは半導体スペースマニュファクチャリングのビジネス化を目指しております．スペースマニュファクチャリングとは，宇宙での製造を意味する言葉で，実際に宇宙で3Dプリンタを用いた実例も存在します．今回の公演では，YOKOGAWAの宇宙および半導体に関する事業紹介，半導体スペースマニュファクチャリングビジネスの概要を紹介いたします．また，宇宙・微重力環境でのウェット処理についての考察を紹介し，皆様と議論を深めたいと考えています．
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社　中森光則

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました．コロナ終結後も，INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．