今秋，開催予定の第8回ポスター発表展では，午前中にチュートリアルを企画しています．詳細は今後お知らせしますが，是非ともスケジュールの確保をお願いします．
■日時：2023年11月27日(月)
午前 チュートリアル
午後 ポスター発表展
■場所：東京都渋谷区千駄ヶ谷
■チュートリアル内容：
「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」
講師 京都大学大学院工学研究科 材料工学専攻
深見一弘 先生
投稿者「管理者」のアーカイブ
第24回講演会シンポジウム[応物シンポジウム]および第32回カサロス(懇親会)開催のご案内(2023.9.20熊本)
応用物理学会秋季学術講演会におけるシンポジウム(第24回講演会)開催および第32回カサロス(懇親会)のご案内です．
2023年9月19日から23日に熊本にて開催予定の応用物理学会の学術講演会にて界面ナノ電子化学研究会企画のシンポジウムを開催します．コロナ前の2019年以来の開催となっており，対面のみを予定しております．
https://meeting.jsap.or.jp/
■開催日時・場所
2023日9月20日(水)
13:00~17:00 シンポジウム ＠A202会場(熊本城ホール)
18:00~20:00 カサロス(懇親会) ＠ビアレストラン オーデン
■案内パンフレット
シンポジウム
カサロス(懇親会)
■申込方法
●シンポジウムへは学術講演会の参加申込をお願いします．
https://meeting.jsap.or.jp/registration
● カサロス(懇親会)の参加申込はこちらから、または下部のQRコードからお願いします．
※今年から参加費用のお支払いは，クレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります．(決済には株式会社メタップスペイメントの「イベントペイ」を使用します)
皆様にお会いできるのを楽しみにしております．
第8回ポスター発表展(2023.11.27都内開催) 発表募集
今秋，第8回ポスター発表展を都内にて開催します．今回もFace to Faceで議論を交える場となりますので，是非とも積極的な発表申込をお願いいたします．
■日時：2023年11月27日(月) 午後
今年は午前中にチュートリアルを企画しています．お楽しみに！
■場所：東京都渋谷区千駄ヶ谷
■発表エントリー締切
2023年9月中旬
■対象
若手技術者，研究者，学生
■投稿分野
・洗浄，ウェットプロセス，表面・界面のいずれかに関するもの
・現象とメカニズムに触れた内容が好ましい
・新規性が無くても良い(過去に発表した内容でも可)
■発表形式
①ライトニングトーク：当日，自己紹介含めた3分間のショートプレゼンを行って頂きます．
②ポスター発表：ライトニングトーク終了後，ポスター発表を行って頂きます．
※ポスターサイズはA0相当となります．
■ポスター発表エントリーは，以下の2名へメールにてご連絡をお願いします．(送信時に@マークを修正してください)
オルガノ株式会社 蔦野恭平 tsutano-k [at] organo.co.jp
日本インテグリス合同会社 永渕琢也 takuya.nagafuchi [at] entegris.com
※参加者募集案内は後日配信いたします．まずはスケジュールの確保をお願いします．
※当日カサロス(懇親会)開催を予定しています．
※社会情勢を鑑みて一部開催内容を変更する場合があります．
※今年から参加費用のお支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります．
(決済には株式会社メタップスペイメントの「イベントペイ」を使用します)
皆様にお会いできるのを楽しみにしております．
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第4回 「シン・IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」(2023.6 田町)
2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り，「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について，この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました．
■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
キオクシア 吉水康人
オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第3回 「回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション」(2023.5 田町)
SCREEN セミコンダクターソリューションズの佐藤様より，回転基板(ウェハ)上の流動解析についてご講演頂いた上で，界面における水の挙動について議論しました．
■2023年5月19日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 佐藤雅伸 様
「 回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション 」
■ ファシリテータ：
キオクシア 吉水康人
オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名
第7回 INE Link「液界面の新たな反応モデルの提案」(2023.3 オンライン)
INE Link第7回は，熊本大学 岩津先生よりご講演頂きました．
【開催に先立ち先生から頂いたメッセージ】
過去，半導体界面の液系酸化，還元反応は，ウェットエッチング，めっき技術として良く知られています．今後，よりナノレベルの反応を実現して行く為には，真空系に対して有利な液系の反応効率性を活かしながら，弱点の異方性，制御性ほかを高められる新しい技術が必要と思います．新たな液系電解反応モデルでは，イオンを高速泳動し，配列後のイオンを瞬間反応させます．また，Dryプロセス同様に容量結合した半導体基板に非接触で酸化，還元反応を実現します．還元領域では，高速の結晶成膜，結晶配列配線，選択成膜，高AR Via，TSV埋込酸化領域では，高ORP反応，異方性，指向性エッチング，粒子捕捉などの可能性を持っていると思います．2nm最先端半導体への挑戦が始まる中，日本の得意な液系分野で新たなDe-Facto Standardの一候補技術となればと夢見て，界面ナノ技術権威の皆様との意見交換を希望します．
■2023年3月22日(水) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
熊本大学 産業ナノマテリアル研究所 客員教授 岩津春生先生
「液界面の新たな反応モデルの提案」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則様
■参加者数：約60名
【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．
春季学術講演会公開シンポジウム (2023.3 上智大)
第70回応用物理学会春季学術講演会にて，一般公開シンポジウム「就活生必見!! 日本が止まると世界が止まる！ 私たちの半導体レジェンド技術」を開催しました．また，終了後，同会場にて「学生のためのランチョンセミナー」，夜にはSEAJとINEの合同懇親会を開催しました．
公開シンポジウム
日時：2023年3月17日(金) 9:30-12:05
場所：上智大
資料：案内パンフレット
主催：応用物理学会・SEAJ日本半導体製造装置協会
企画：INE界面ナノ電子化学研究会・インダストリアルチャプター
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第2回 「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」(2023.3 田町)
物質・材料研究機構(NIMS)の重藤様より，低温＆非真空ハイブリッド接合技術についてご講演頂いた上で，接合時における水分子の役割について議論しました．
■2023年3月10日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
物質・材料研究機構 重藤暁津 様
「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」
■ ファシリテータ：
オルガノ 矢野大作
キオクシア 吉水康人
■参加者数：17名
吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第1回 「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジーの深掘り」(2023.2 田町)
2022年12月にINE Linkにてご講演頂きました日立ハイテク 大竹様に再登壇頂き，水の機能と役割について，より深い議論を行いました．
■2023年2月17日(金) 14:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
日立ハイテク 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」の深掘り
■ ファシリテータ：
東京エレクトロン九州 中森光則
キオクシア 吉水康人
■参加者数：23名
第6回 INE Link「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」(2022.12 オンライン)
INE Link第6回は，日立ハイテク 大竹様よりご講演頂きました．FinFET / GAAや3D NAND / 3D DRAM構造など最先端のデバイスには3次元構造が検討されており，3次元構造を実現する等方性エッチングが強く求められています．まずドライエッチング技術で昨今検討が進むAtomic Layer Etchingについて，ガスフェーズエッチやラジカルエッチについて紹介して頂き，そのうえで，改質層を除去するドライ的アプローチと，低温化による疑似ウエットエッチアプローチを比較議論しました．今後，ウエットとドライの境界領域の学術的議論が広がり、類似性と差異の理解から新しい学問領域が生まれることを期待します．
■2022年12月9日(金) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
株式会社日立ハイテク プロセス東京技術センタ 部長代理 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則様
■参加者数：約120名
【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．