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第9回ポスター発表展(2025.6.20東京都昭島市開催) 参加者募集

2025年6月20日(金)に第9回ポスター発表展および第38回カサロス(懇親会)を開催します．午前に育成ワーキンググループ(WG)、午後に28件のポスター発表があります．今年もFace to Faceの活発な議論ができることを楽しみにしています．皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております．[案内チラシ]

■開催概要
　●育成ワーキンググループ
　　「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」真田俊之教授(静岡大学学術院 工学専攻)
　●第9回ポスター発表展(発表件数：28件)
　●第38回カサロス(懇親会)
■日時：2025年6月20日(金)
　10:25～12:30　育成WG
　13:15～17:45　ポスター発表展
　17:45～19:15　カサロス(懇親会)
■場所：Kurita Innovation Hub (KIH)
　(東京都昭島市代官山1-4-1、JR青梅線 昭島駅北口より徒歩約7分)
■参加費：(学生 無料)
　育成WG　2,000円
　ポスター発表展　2,000円
　カサロス(懇親会)6,000円
■申込締切：2025年5月30日(金)17:00
■申込方法
参加申込先URLもしくはQRコードより，「育成WG・ポスター発表展」と「カサロス」のそれぞれに申し込みをお願いします．お支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済「イベントペイ」のみとなります．
【育成WG・ポスター発表展】
　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=7840390475
【カサロス（懇親会）】
　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=3746228328
■世話役
　オルガノ　蔦野恭平　tsutano-k[at]organo.co.jp
　東京エレクトロン　山中励二郎　reijiro.yamanaka[at]tel.com
　日本インテグリス　永渕琢也　takuya.nagafuchi[at]entegris.com

皆様にお会いできるのを楽しみにしております．

第6期活動開始

本研究会は新体制のもと，第6期(2025.1～2027.12予定)の活動に入りました．

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

第26回講演会 ＆ 第1回 育成WG チュートリアル ＆ ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)

【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．2016年からは更なる発展のために，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました．コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが，今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました．”歴史を学ぶ，先端プロセスを知る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．

日時：2024年11月8日(金)12:45 ～ 9日(土)12:10
会場： ダイキンアレス⻘⾕
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット

1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
　寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
　岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
　近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)

2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
　吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
　井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り，岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ，本日(2024.11.8)，2名の方へ貢献賞を授与しました．[授賞式での紹介スライド]

SCREENホールディングス 荒⽊ 浩之 様
2006年の第1回活動から中心となり活動を支えていただきました．その後ほぼ全ての活動(学会時の活動はもちろん、暗黙知の共鳴場としてワーキンググループ活動、ポスター発表展、フォーラムなども)について牽引役を担っていただき，研究会の発展に大きく寄与されました．

静岡大学 真田 俊之 先生
企業メンバー中心であった当研究会の委員⻑を⻘⽊先⽣の跡を引継ぎ9年間3期にわたり務めながら，献身的な活動の成果により徐々に大学の先⽣⽅も参加いただけるようになり，更なる発展に寄与されました．

第25回講演会 [応物シンポジウム] (2024.9 新潟)

本講演会は2024年 第85回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「異分野に拡がる界面ナノ電子化学 ～最先端半導体からバイオサイエンスまで～」として開催されました．

【開催趣旨】最先端の半導体ウェットプロセスは，ナノレベルでの気液固体の相互作用によって制御されます．現象を把握するには，電子化学的な解明が必要でありこのシンポジウムでは，バイオサイエンス等の異なる分野の研究者や技術者と議論し，新たな半導体ウェットプロセス技術の創出につなげます．

日時：2024年9月18日(水) 13:30～17:00
会場：新潟
資料：案内パンフレット

【招待講演】
■ 洗浄乾燥時の微細構造倒壊メカニズム
　小出 辰彦（キオクシア）
■表面極近傍に移動するナノ粒子の三次元挙動観測
　カチョーンルンルアン パナート（九州工業大学）
■多彩な液体と気体のインタラクションで見るバイオ界面
　田中 信行（理化学研究所）
■FM-AFMによるナノスコピックなぬれのその場観察
　荒木 優希（金沢大）

【招待講演・INE第8回ポスター展優秀講演賞記念講演】
■ nmサイズの狭所内SiO2 エッチングにおけるシリコンの疎水性及び表面電位の効果
　宮川 彰平（SCREENホールディングス）

【一般講演】
■枚葉スピン式洗浄のリンス処理における薬液排出過程の三次元数値計算
■純水噴霧の誘導帯電メカニズムの解析
■二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO2ウェハの表面電位の関係性