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育成WG 第2回 「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」(2025.6 昭島)

育成ワーキンググループとして，第9回ポスター発表展当日の午前中に，静岡大 真田先生より流体力学の基礎について講義を行って頂きました．

■2025年6月20日(金) 10:25-12:30
■場所：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市)
■チュートリアル
　「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」
　真田俊之教授 (静岡大学学術院工学専攻)

第9回ポスター発表展 (2025.6 昭島)

■日時：2025年6月20日(金) 13:30～17:15
■会場：栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市) 現地開催のみ
■参加者：117名
■ 資料：案内パンフレット

13:15～13:30「開会挨拶」岩元委員長 / 「KIH施設紹介」
13:30～14:40「ポスターセッション：ライトニングトーク」
14:50～16:40「ポスターセッション：ディスカッション」
16:40～17:25「KIH施設案内」
17:25～17:35「INE活動報告」 吉水副委員長
17:35～17:45「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長

本ポスター発表展にて，優秀講演賞に鈴木涼平氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)が選ばれました．また，本ポスター発表展当日の午前中は第2回 育成WG，終了後には第38回カサロス(懇親会)を開催しました．

第9回 INE Link「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」(2025.5 オンライン)

横河ソリューションサービス 布施理様にご講演をお願いし，半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題について議論しました．

■日時
2025年5月7日(水) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
横河ソリューションサービス株式会社 半導体ビジネスセンター ビジネス推進部 技術コンサルティングGr
布施理 様
「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」
YOKOGAWAは半導体スペースマニュファクチャリングのビジネス化を目指しております．スペースマニュファクチャリングとは，宇宙での製造を意味する言葉で，実際に宇宙で3Dプリンタを用いた実例も存在します．今回の公演では，YOKOGAWAの宇宙および半導体に関する事業紹介，半導体スペースマニュファクチャリングビジネスの概要を紹介いたします．また，宇宙・微重力環境でのウェット処理についての考察を紹介し，皆様と議論を深めたいと考えています．
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社　中森光則

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました．コロナ終結後も，INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．

第8回 INE Link「宇宙と半導体の可能性(宇宙ステーションの環境を用いたイノベーション創出)」(2025.4 オンライン)

三菱商事 村上一馬様にご講演をお願いし，宇宙と半導体の可能性について議論しました．

■日時
2025年4月22日(火) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
三菱商事株式会社 宇宙航空機部 商業宇宙ステーションプロジェクトマネージャー
村上一馬 様
「宇宙と半導体の可能性(宇宙ステーションの環境を用いたイノベーション創出) 」
1) 三菱商事の宇宙への取組み
2) 宇宙ステーション産業の国際トレンド
3) 宇宙ステーションにおける半導体関連実験の事例と可能性
4) 宇宙半導体の可能性追求の為の三菱商事の取組み(勉強会/宇宙戦略基金等)
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社　中森光則

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました．コロナ終結後も，INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第5回 「半導体とバイオサイエンスにおけるナノ界面現象の共通点」(2025.1 田町)

国立研究開発法人 理化学研究所から上級研究員 田中信行様と専任研究員 二本柳聡史様をお招きし，「半導体とバイオサイエンスにおけるナノ界面現象の共通点」をテーマに議論を行いました．

■2025年1月23日(水) 13:30-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　SCREEN 佐藤雅伸
■参加者数：19名

第6期活動開始

本研究会は新体制のもと，第6期(2025.1～2027.12予定)の活動に入りました．

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

第26回講演会 ＆ 第1回 育成WG チュートリアル ＆ ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)

【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．2016年からは更なる発展のために，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました．コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが，今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました．”歴史を学ぶ，先端プロセスを知る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．

日時：2024年11月8日(金)12:45 ～ 9日(土)12:10
会場： ダイキンアレス⻘⾕
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット

1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
　寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
　岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
　近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)

2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
　吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
　井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り，岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ，本日(2024.11.8)，2名の方へ貢献賞を授与しました．[授賞式での紹介スライド]

SCREENホールディングス 荒⽊ 浩之 様
2006年の第1回活動から中心となり活動を支えていただきました．その後ほぼ全ての活動(学会時の活動はもちろん、暗黙知の共鳴場としてワーキンググループ活動、ポスター発表展、フォーラムなども)について牽引役を担っていただき，研究会の発展に大きく寄与されました．

静岡大学 真田 俊之 先生
企業メンバー中心であった当研究会の委員⻑を⻘⽊先⽣の跡を引継ぎ9年間3期にわたり務めながら，献身的な活動の成果により徐々に大学の先⽣⽅も参加いただけるようになり，更なる発展に寄与されました．