INE Link第7回は，熊本大学 岩津先生よりご講演頂きました．

【開催に先立ち先生から頂いたメッセージ】
過去，半導体界面の液系酸化，還元反応は，ウェットエッチング，めっき技術として良く知られています．今後，よりナノレベルの反応を実現して行く為には，真空系に対して有利な液系の反応効率性を活かしながら，弱点の異方性，制御性ほかを高められる新しい技術が必要と思います．新たな液系電解反応モデルでは，イオンを高速泳動し，配列後のイオンを瞬間反応させます．また，Dryプロセス同様に容量結合した半導体基板に非接触で酸化，還元反応を実現します．還元領域では，高速の結晶成膜，結晶配列配線，選択成膜，高AR Via，TSV埋込酸化領域では，高ORP反応，異方性，指向性エッチング，粒子捕捉などの可能性を持っていると思います．2nm最先端半導体への挑戦が始まる中，日本の得意な液系分野で新たなDe-Facto Standardの一候補技術となればと夢見て，界面ナノ技術権威の皆様との意見交換を希望します．

■2023年3月22日(水) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
熊本大学 産業ナノマテリアル研究所 客員教授 岩津春生先生
「液界面の新たな反応モデルの提案」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則様
■参加者数：約60名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．

INE Link第6回は，日立ハイテク 大竹様よりご講演頂きました．FinFET / GAAや3D NAND / 3D DRAM構造など最先端のデバイスには3次元構造が検討されており，3次元構造を実現する等方性エッチングが強く求められています．まずドライエッチング技術で昨今検討が進むAtomic Layer Etchingについて，ガスフェーズエッチやラジカルエッチについて紹介して頂き，そのうえで，改質層を除去するドライ的アプローチと，低温化による疑似ウエットエッチアプローチを比較議論しました．今後，ウエットとドライの境界領域の学術的議論が広がり、類似性と差異の理解から新しい学問領域が生まれることを期待します．

■2022年12月9日(金) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
株式会社日立ハイテク プロセス東京技術センタ 部長代理 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則様
■参加者数：約120名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．