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育成WG 第0回 「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」(2023.11 千駄ヶ谷)

育成ワーキンググループ活動開始のプレイベントとして，第8回ポスター発表展当日の午前中に，京大 深見先生より電気化学の基礎について講義を行って頂きました．

■2023年11月27日(月) 10:25-12:30
■場所：ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷)
■チュートリアル
　「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」
　深見一弘 先生 (京都大学 大学院 工学研究科)
■参加者数：78名

第8回ポスター発表展 (2023.11 千駄ヶ谷)

■日時：2023年11月27日(月) 13:30～17:15
■会場：ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷) 現地開催のみ
■参加者：92名
■ 資料：案内パンフレット

13:30～13:40「開会挨拶」岩元委員長
13:40～14:45「ポスターセッション：ライトニングトーク」
14:55～16:35「ポスターセッション：ディスカッション」
16:45～16:55「INE活動報告」 吉水副委員長
16:55～17:15「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長

本ポスター発表展にて，優秀講演賞に宮川彰平氏(SCREENホールディングス)が選ばれました．また，本ポスター発表展当日の午前中は第0回 育成WG，終了後には第33回カサロス(懇親会)を開催しました．

第24回講演会 [応物シンポジウム] (2023.9 熊本)

本講演会は2023年 第84回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界⾯ナノ電⼦化学：深化する半導体ウェットプロセス」として開催されました．

【開催趣旨】半導体ウェットプロセスは、半導体表面でのナノレベルでの現象解明から300mmウェハスケールでの制御まで幅広い知見が必要となる。このシンポジウムでは、この半導体ウェットプロセスに関する企業エンジニアや大学研究者のレジェンドを招待し、現在第一線で活躍する技術者・研究者と議論する場を設け、深化を続ける半導体ウェットプロセスの未来を考える。また、この業界に興味を持つ学生への学ぶ場を提供する。

日時：2023年9月20日(水) 13:30～17:30
会場：熊本
資料：案内パンフレット

【招待講演】
■半導体基板洗浄装置の歴史とイノベーション
　荒木 浩之（株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ）
■半導体枚様式洗浄装置の開発について
　菅野 至（東京エレクトロン九州株式会社）
■半導体洗浄技術30年の歩みと今後の展望
　冨田 寛（キオクシア株式会社）
■バッチ式ウエハ洗浄装置内水流解析と設計の視点
　羽深 等（横浜国立大学）

【一般講演】
■枚葉式フッ硝酸Siエッチングにおける表面挙動の解析
■OpenFOAMを用いたエッチングを伴う回転円盤上での液膜流れの数値計算
■エッチングの理論解析-第一原理計算と機械学習ポテンシャル計算-
■CMOS互換プロセスで作製されたナノ共振器シリコンラマンレーザの吸収損失除去
■PVAブラシの変形に伴う液体流出及び流入挙動の観察
■誘導帯電素子を用いた二流体スプレー時の発生電荷量の制御
■界面ナノ電子化学研究会吸着ワーキンググループ活動報告

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第4回 「シン・IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」(2023.6 田町)

2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り，「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について，この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました．

■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名