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第6回 INE Link「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」(2022.12.9 オンライン)

今回のINE Linkは株式会社日立ハイテク 大竹様にご講演をお願いしました.FinFET / GAAや3D NAND / 3D DRAM構造など最先端のデバイスには3次元構造が検討されており,3次元構造を実現する等方性エッチングが強く求められています.まずドライエッチング技術で昨今検討が進むAtomic Layer Etchingについて,ガスフェーズエッチやラジカルエッチについて紹介して頂き,そのうえで,改質層を除去するドライ的アプローチと,低温化による疑似ウエットエッチアプローチを比較議論します.ウエットとドライの境界領域の学術的議論が広がり、類似性と差異の理解から新しい学問領域が生まれればと考えます.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.

■2022年12月9日(金) 15:00-17:00 (オンライン開催)
 15:00-16:30 講演
 16:30-17:00 懇親会
■講演
株式会社日立ハイテク プロセス東京技術センタ 部長代理 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」
■ モデレーター:
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則

■申込:以下のURLからお申込みください.所属,名前,メールアドレスはINE Linkの趣旨により参加者間で共有します.
https://forms.office.com/r/LKyv0BQgH5
ZoomのURLは後日実行委員からメール連絡されます.

■問い合わせ先(実行委員)
日本インテグリス合同会社 永渕琢也 takuya.nagafuchi[@]entegris.com

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました.INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.

第5回INE Link「半導体ウェットプロセスにおけるカーボンニュートラルを考える」(2022.8 オンライン)

INE Link第5回では,カーボンニュートラルの理解を深め,半導体ウェットプロセスの分野として各企業で何ができるかを議論しました.

■日時:2022年8月31日(水)16:00~17:30
■場所:オンライン(Zoom)
■チュートリアル
「企業を取り巻く脱炭素経営環境とサプライチェーンにおけるGHG排出量について」
長瀬産業株式会社 エレクトロニクス事業部 電子資材部(兼)サステナビリティ推進室
担当部長 山中利道 様
■パネルディスカション
「半導体ウェットプロセスにカーボンニュートラルの取り組み:サプライチェーンの中で各企業で,できること」
モデレーター:
 東京エレクトロン九州株式会社 中森光則
パネリスト:
 長瀬産業株式会社 山中利道 様
 長瀬産業株式会社 橋本和之 様
 キオクシア株式会社 吉水康人 様
■参加者数:約55名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました.INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.

規程改正のおしらせ

2022.4.27付で当研究会の規程を改正しました.主な変更点は以下の通りです.
・第14条 アドバイザー選出方法の明文化
・第18条 講演謝礼の支出金額に上限を設定
改正後の規定はこちらからご参照下さい.

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新しい技術の展開,議論したい技術,解決策が無く困っている案件に対し,業界に広く意⾒を求めてみませんか︖ INE Linkでは企画を募集しています.⇒ 詳細はこちら

【INE Linkとは】
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第4回INE Link「同志社大学ビジネス研究科 森良弘教授 講演会」(2022.5 オンライン)

INE Link第4回は,同志社大学ビジネス研究科 森良弘教授よりご講演頂きました.

■日時:2022年5月9日(月)16:00~17:30
■場所:オンライン(Zoom)
■講演:「技術で勝ってビジネスで負ける?」
同志社大学ビジネス研究科 森良弘教授
■参加者数:約65名

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第5期活動開始

本研究会は新体制のもと,第5期(2022.1~2024.12予定)の活動に入りました.

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

第6回ポスター発表展 (2021.10 オンライン)

■日時:2021年10月14日(木) 13:00~17:00
■会場:オンライン (Zoom)
■参加者:100名
■ 資料:案内パンフレット

13:00~13:10「開会挨拶」委員長:冨田寛(キオクシア) 企画:蔦野恭平(オルガノ)
13:10~14:00「ライトニングトーク」
14:00~14:20「事務連絡」:ディスカッション進行説明 ”
14:20~15:15「 ポスターセッション:ディスカッション前半」
15:15~15:35「企業セッション」
15:35~16:30「ポスターセッション:ディスカッション後半」
16:30~16:45「INE活動報告」 総務責任者:吉水康人(東芝メモリ)
16:45~16:55「表彰式&閉会挨拶」 副委員長:岩元勇人(ソニーセミコンダクターソリューションズ)
16:55~17:00「集合写真撮影」

本ポスター発表展にて,優秀講演賞には 顔暢子氏(栗田工業株式会社) ,委員長特別賞には保坂篤紀氏(静岡大学) が選ばれました.また,ポスター発表展終了後には第30回カサロス(懇親会)をオンライン開催しました.

第3回INE Link「大阪府立大学 高橋和先生 & 微細加工研究所 湯之上隆先生 講演会」(2021.9 オンライン)

INE Link第3回は,大阪府立大学 高橋和先生,微細加工研究所 湯之上隆先生よりご講演頂きました.

■日時:2021年9月30日(木)14:00~16:30
■場所:オンライン(Zoom)
■講演1:
 「高Q値シリコンラマンレーザ研究の現状と応用」
 大阪府立大学 高橋和先生
■講演2:
 「日本の装置と材料の競争力とその源泉ーインタビューのお願いー」
  微細加工研究所 湯之上隆先生
■参加者数:約40名

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新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました.INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.

第2回INE Link「キラリと光(ヒカル/ヒカリ)の技術紹介」(2021.8 オンライン)

INE Link第2回として,大塚電子株式会社 原田様より「キラリと光(ヒカル/ヒカリ)の技術紹介」についてご講演頂きました.

■日時:2021年8月25日(水)15:00~16:45
■場所:オンライン(Zoom)
■講演:
 「キラリと光(ヒカル/ヒカリ)の技術紹介」
 大塚電子株式会社 原田拓様
■参加者数:約40名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました.INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、今後シリーズ開催します.