第8回ポスター発表展＆第0回育成WGチュートリアル＆第33回カサロス(2023.11.27都内開催) 参加者募集

2023年11月27日(月)に第8回ポスター発表展を開催します．Face to Faceの活発な議論を期待しています．また育成ワーキンググループの新たな活動としてチュートリアルも開催します．皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております．【案内チラシ】

■日時：2023年11月27日(月) 10:25～17:15
■会場：ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷) 現地開催のみ
■開催概要：
　チュートリアル 1件(第0回 育成ワーキンググループ)
　　深見一弘先生「材料表面加工のための電気化学：電位の考え方と使い方」
　　(京都大学 大学院 工学研究科)
　ポスター発表 20件
■参加費：チュートリアル2000円・ポスター発表展2000円(いずれも学生無料)
■申込方法：参加申込先URLよりお願いします．
　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=7144281230
　※添付の案内にQRコードあります
　※今年から参加費用のお支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります
■申込締切：2023年11月10日(金) 17時
　※定員に限りがあるので早めに参加お申込みください

【第33回カサロス(懇親会) 】
ポスター発表展終了後，同じ会場にて第33回カサロス(懇親会)を開催します．チュートリアル・ポスター発表展とは申込先が異なりますので，別途お申し込みをお願いします．
■ 日時：2023年11月27日(月) 17:30 ～ 19:00
■ 参加費：5500円(学生無料)
■申込方法：参加申込先URLよりお願いします．
https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=6091581197

■世話役：
　オルガノ 蔦野恭平 tsutano-k[at]organo.co.jp
　日本インテグリス 永渕琢也 takuya.nagafuchi[at]entegris.com

第24回講演会 [応物シンポジウム] (2023.9 熊本)

本講演会は2023年 第84回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「界⾯ナノ電⼦化学：深化する半導体ウェットプロセス」として開催されました．

【開催趣旨】半導体ウェットプロセスは、半導体表面でのナノレベルでの現象解明から300mmウェハスケールでの制御まで幅広い知見が必要となる。このシンポジウムでは、この半導体ウェットプロセスに関する企業エンジニアや大学研究者のレジェンドを招待し、現在第一線で活躍する技術者・研究者と議論する場を設け、深化を続ける半導体ウェットプロセスの未来を考える。また、この業界に興味を持つ学生への学ぶ場を提供する。

日時：2023年9月20日(水) 13:30～17:30
会場：熊本
資料：案内パンフレット

【招待講演】
■半導体基板洗浄装置の歴史とイノベーション
　荒木 浩之（株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ）
■半導体枚様式洗浄装置の開発について
　菅野 至（東京エレクトロン九州株式会社）
■半導体洗浄技術30年の歩みと今後の展望
　冨田 寛（キオクシア株式会社）
■バッチ式ウエハ洗浄装置内水流解析と設計の視点
　羽深 等（横浜国立大学）

【一般講演】
■枚葉式フッ硝酸Siエッチングにおける表面挙動の解析
■OpenFOAMを用いたエッチングを伴う回転円盤上での液膜流れの数値計算
■エッチングの理論解析-第一原理計算と機械学習ポテンシャル計算-
■CMOS互換プロセスで作製されたナノ共振器シリコンラマンレーザの吸収損失除去
■PVAブラシの変形に伴う液体流出及び流入挙動の観察
■誘導帯電素子を用いた二流体スプレー時の発生電荷量の制御
■界面ナノ電子化学研究会吸着ワーキンググループ活動報告

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第4回 「シン・IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」(2023.6 田町)

2015年より活動を開始した吸着WGの原点に立ち返り，「IPAに存在する金属不純物のウェハへの吸着挙動」について，この8年の間に蓄積された情報を活用しつつ再度議論を行いました．

■2023年6月28日(水) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第3回 「回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション」(2023.5 田町)

SCREEN セミコンダクターソリューションズの佐藤様より，回転基板(ウェハ)上の流動解析についてご講演頂いた上で，界面における水の挙動について議論しました．

■2023年5月19日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 佐藤雅伸 様
「 回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション 」
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人
　オルガノ 矢野大作
■参加者数：21名

第7回 INE Link「液界面の新たな反応モデルの提案」(2023.3 オンライン)

INE Link第7回は，熊本大学 岩津先生よりご講演頂きました．

【開催に先立ち先生から頂いたメッセージ】
過去，半導体界面の液系酸化，還元反応は，ウェットエッチング，めっき技術として良く知られています．今後，よりナノレベルの反応を実現して行く為には，真空系に対して有利な液系の反応効率性を活かしながら，弱点の異方性，制御性ほかを高められる新しい技術が必要と思います．新たな液系電解反応モデルでは，イオンを高速泳動し，配列後のイオンを瞬間反応させます．また，Dryプロセス同様に容量結合した半導体基板に非接触で酸化，還元反応を実現します．還元領域では，高速の結晶成膜，結晶配列配線，選択成膜，高AR Via，TSV埋込酸化領域では，高ORP反応，異方性，指向性エッチング，粒子捕捉などの可能性を持っていると思います．2nm最先端半導体への挑戦が始まる中，日本の得意な液系分野で新たなDe-Facto Standardの一候補技術となればと夢見て，界面ナノ技術権威の皆様との意見交換を希望します．

■2023年3月22日(水) 15:00-17:00
■場所：オンライン(Zoom)
■講演
熊本大学 産業ナノマテリアル研究所 客員教授 岩津春生先生
「液界面の新たな反応モデルの提案」
■ モデレーター：
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則様
■参加者数：約60名

【INE Linkとは】
新型コロナの影響により直接お会いする機会が少なくなっていますが，当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく，新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を企画しました．INE Linkは人と人，人と技術，技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています．

春季学術講演会公開シンポジウム (2023.3 上智大)

第70回応用物理学会春季学術講演会にて，一般公開シンポジウム「就活生必見!! 日本が止まると世界が止まる！ 私たちの半導体レジェンド技術」を開催しました．また，終了後，同会場にて「学生のためのランチョンセミナー」，夜にはSEAJとINEの合同懇親会を開催しました．

公開シンポジウム
日時：2023年3月17日(金) 9:30-12:05
場所：上智大
資料：案内パンフレット
主催：応用物理学会・SEAJ日本半導体製造装置協会
企画：INE界面ナノ電子化学研究会・インダストリアルチャプター

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第2回 「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」(2023.3 田町)

物質・材料研究機構(NIMS)の重藤様より，低温＆非真空ハイブリッド接合技術についてご講演頂いた上で，接合時における水分子の役割について議論しました．

■2023年3月10日(金) 13:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
物質・材料研究機構 重藤暁津 様
「接合性と機能を一括して得るための低温大気圧表面改質手法」
■ ファシリテータ：
　オルガノ 矢野大作
　キオクシア 吉水康人
■参加者数：17名

吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第1回 「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジーの深掘り」(2023.2 田町)

2022年12月にINE Linkにてご講演頂きました日立ハイテク 大竹様に再登壇頂き，水の機能と役割について，より深い議論を行いました．

■2023年2月17日(金) 14:00-17:00
■場所：キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
日立ハイテク 大竹浩人様
「最先端等方性ドライエッチ技術とウエットプロセスとのアナロジー」の深掘り
■ ファシリテータ：
　東京エレクトロン九州 中森光則
　キオクシア 吉水康人
■参加者数：23名