界面ナノ電子化学研究会は,半導体ウェットプロセスに関する様々な企業,研究機関および大学の関係者の皆様とともに,半導体製造プロセスの学術的な解明と発展に貢献してまいりました.おかげさまで,今年,設立20周年を迎えることとなりました.
本研究会のさらなる発展を目指し,活発な議論,関係者の交流,若手技術者の育成などを目的として,この度,合宿形式の「界面ナノ電子化学研究会フォーラム(INEF2026)」を開催する運びとなりました.開催は2026年6月19日(金)から20日(土)にかけて,滋賀県の琵琶湖のほとりを予定しています.[詳細はこちら]
久々に合宿形式で皆様と深く議論できる機会となります.ポスター発表展も同時開催しますので,ご参加・ポスター発表のご予定を確保いただけると幸いです. 招待講演やカサロス(懇親会)なども企画しています.お楽しみに!
【 開催概要 】
■日時:2026年6月19日(金)PM~20日(土)AM
■場所:琵琶湖グランドホテル・京近江(滋賀県大津市雄琴)
■参加費:会員種別、申込日によって異なりますので添付案内をご参照下さい
■申込締切:早期割引4月24日まで、最終締切5月14日まで
■開催内容:招待講演、ポスター発表展、懇親会(カサロス)
■申込先:下記イベントペイよりお申し込み下さい
https://eventpay.jp/event_info?shop_code=0672069005389223&EventCode=C928179008
【ポスター発表展について】
INEF2026の企画内で,第10回ポスター発表展を同時開催いたします.詳細は件名「【INE】【第10回ポスター展参加者募集】界面ナノ電子化学研究会 第10回 ポスター展のお知らせ」のメールをご確認ください.皆様からの発表エントリーをお待ちしております.
■発表エントリー締切 :4月24日(申込多数の場合は早期に締め切らせて頂く場合があります)
【ノベルティ募集について 】
参加者へ各種資料と共に,ノベルティを配布します.ノベルティ商品をご提供頂ける企業様はお知らせ頂ければ幸いです.
ノベルティグッズ募集フォーム – フォームに記入する
第6回 吸着・乾燥WG合同ワークショップ開催案内 (2026.5.20 日本橋)
今回は,熊本大学 大平慎一先生,北陸先端科学技術大学院大学 高村禅先生をお招きし,「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」と題して,両先生方のご講演,その後議論を行います.また,INEは半導体ウェット領域での活動が主としていますが,今回はSEAJウェーハプロセス専門委員会と合同開催とし,半導体業界でも領域の違う技術者と交流・議論を深め,参加者間のネットワークを広げることを目的としています.
■日時:2026年5月20日(水) 14:00~17:00
■場所:Rise-A 東京都中央区⽇本橋室町1-7-1 スルガビル7階
東京メトロ三越前駅A1出口から徒歩1分/東京駅から徒歩12分
https://www.rise-a.jp/access/index.html
■テーマ:「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」
招待講演者(それぞれ40分の御講演予定)
国立大学法人 熊本大学 大平慎一 副学長
国立大学法人 北陸先端科学技術大学院大学 高村 禅教授
■会費:無し(懇親会代は別途徴収)
■ファシリテータ:
INE)キオクシア 吉水康人,SCREEN 佐藤雅伸
SEAJ)SCREEN 増本哲己
■参加要件:
・WGは討論会形式を採用しておりますので,積極的に議論へ加わってください.
・参加者には次回以降のファシリテータやWG運営等をお願いします.
■定員:20名 (希望者多数の場合,制限する場合がございます.予めご了承ください.)
■申込方法:以下のURLもしくは添付QRコードからMicrosoft Formsにアクセスし,必要事項の入力をお願いします.
https://forms.cloud.microsoft/r/hLpCqDdVXL
■懇親会:ワークショップ参加申込者に別途ご案内します.
■申込締切:2026年4月19日12時
定員に達する前の早めお申し込みがおススメです.
■INE会員参加申し込みについて
INE会員への登録を希望される場合は,規程をご確認の上,問い合わせ先にご連絡ください.https://annex.jsap.or.jp/kaimen-nano/wp201911/wp-content/uploads/2022/05/rule_INE_20220427.pdf
規程改正のおしらせ
2025.10.27付で当研究会の規程を一部改正しました.
第27回講演会&第3回育成WGチュートリアル(2025.10 四ツ谷)
2025年10月17日(金)に第27回 講演会&第3回育成WGチュートリアルを四ツ谷にて開催しました.
■ 第27回 講演会
招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)
■ 第3回育成ワーキンググループ
「分子動力学シミュレーション:液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)
■日時:2025年10月17日(金) 13:00~17:15
■場所:プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加者数:約90名
■案内: 案内パンフレット
INE特別ワークショップ「半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象」(2025.7 日本橋)
貢献賞を授与しました
界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り,岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ,本日(2025.6.20),次の方へ貢献賞を授与しました.[授賞式での紹介スライド]
長瀬産業株式会社 橋本和之 様
研究会発足前より指南役として研究会の立ち上げに大きく寄与されました.発足後もほぼ全ての活動(紹介スライドの学会活動・ポスター発表展・フォーラム・カサロス)についてけん引役を担っていただき,特にポスター展での会場提供による交流環境の創出を携わり,研究会の発展に大きく寄与されました.
第38回カサロス (2025.6 昭島)
育成WG 第2回 「枚葉式ウェットプロセスのための流体力学」(2025.6 昭島)
第9回ポスター発表展 (2025.6 昭島)
■日時:2025年6月20日(金) 13:30~17:15
■会場:栗田工業 Kurita Innovation Hub (KIH) (東京都昭島市) 現地開催のみ
■参加者:117名
■ 資料:案内パンフレット
13:15~13:30「開会挨拶」岩元委員長 / 「KIH施設紹介」
13:30~14:40「ポスターセッション:ライトニングトーク」
14:50~16:40「ポスターセッション:ディスカッション」
16:40~17:25「KIH施設案内」
17:25~17:35「INE活動報告」 吉水副委員長
17:35~17:45「表彰式&閉会挨拶」有馬副委員長
本ポスター発表展にて,優秀講演賞に鈴木涼平氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)が選ばれました.また,本ポスター発表展当日の午前中は第2回 育成WG,終了後には第38回カサロス(懇親会)を開催しました.
第9回 INE Link「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」(2025.5 オンライン)
横河ソリューションサービス 布施理様にご講演をお願いし,半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題について議論しました.
■日時
2025年5月7日(水) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
横河ソリューションサービス株式会社 半導体ビジネスセンター ビジネス推進部 技術コンサルティングGr
布施理 様
「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」
YOKOGAWAは半導体スペースマニュファクチャリングのビジネス化を目指しております.スペースマニュファクチャリングとは,宇宙での製造を意味する言葉で,実際に宇宙で3Dプリンタを用いた実例も存在します.今回の公演では,YOKOGAWAの宇宙および半導体に関する事業紹介,半導体スペースマニュファクチャリングビジネスの概要を紹介いたします.また,宇宙・微重力環境でのウェット処理についての考察を紹介し,皆様と議論を深めたいと考えています.
■ モデレーター:
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました.コロナ終結後も,INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.
























































































