第9回ポスター発表展を6月20日に東京都昭島市にて開催します．今回もFace to Faceで議論を交える場となりますので，是非とも積極的な発表申込をお願いいたします．
■日時：2025年6月20日(金)午後
午前中には人材育成WGのチュートリアルを企画しています．お楽しみに！
■場所：Kurita Innovation Hub (KIH) 東京都昭島市
■発表エントリー締切
2025年4月末
■対象
若手技術者，研究者，学生
■表彰： 発表者の中から最優秀講演賞を表彰
■投稿分野
・洗浄，ウェットプロセス，表面・界面のいずれかに関するもの
・現象とメカニズムに触れた内容が好ましい
・新規性が無くても良い(過去に発表した内容でも可)
■発表形式
①ライトニングトーク：当日，自己紹介含めた3分間のショートプレゼンを行って頂きます．
②ポスター発表：ライトニングトーク終了後，ポスター発表を行って頂きます．
※ポスターサイズはA0相当となります．
■ポスター発表エントリーは，以下の2名へメールにてご連絡をお願いします．(送信時に@マークを修正してください)
オルガノ株式会社_蔦野 tsutano-k [at] organo.co.jp
東京エレクトロン株式会社_山中 reijiro.yamanaka [at] tel.com
※参加者募集案内は後日配信いたします．まずはスケジュールの確保をお願いします．
※当日カサロス(懇親会)開催を予定しています．
※参加費用のお支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります．
(決済には株式会社メタップスペイメントの「イベントペイ」を使用します)
皆様にお会いできるのを楽しみにしております．
「ポスター発表展」カテゴリーアーカイブ
第26回講演会 ＆ 第1回 育成WG チュートリアル ＆ ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)
【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．2016年からは更なる発展のために，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました．コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが，今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました．”歴史を学ぶ，先端プロセスを知る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．
日時：2024年11月8日(金)12:45 ～ 9日(土)12:10
会場： ダイキンアレス⻘⾕
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット
1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)
2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表
第8回ポスター発表展 (2023.11 千駄ヶ谷)
■日時：2023年11月27日(月) 13:30～17:15
■会場：ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷) 現地開催のみ
■参加者：92名
■ 資料：案内パンフレット
13:30～13:40「開会挨拶」岩元委員長
13:40～14:45「ポスターセッション：ライトニングトーク」
14:55～16:35「ポスターセッション：ディスカッション」
16:45～16:55「INE活動報告」 吉水副委員長
16:55～17:15「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長
本ポスター発表展にて，優秀講演賞に宮川彰平氏(SCREENホールディングス)が選ばれました．また，本ポスター発表展当日の午前中は第0回 育成WG，終了後には第33回カサロス(懇親会)を開催しました．
第7回ポスター発表展 (2022.9 千駄ヶ谷)
■日時：2022年9月29日(木) 13:00～17:40
■会場：現地発表＋オンラインポスター掲載のハイブリッド形式
ナガセ グローバル 人財開発センター(東京都渋谷区千駄ヶ谷
■参加者：約100名
■ 資料：案内パンフレット
13:00～13:10「開会挨拶」岩元委員長
13:10～13:55「招待講演」
佐藤雅伸氏 (株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ)
回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション
13:55～15:00「ポスターセッション：ライトニングトーク」
15:10～17:10「ポスターセッション：ディスカッション」
17:10～17:20「INE活動予定」 吉水副委員長
17:20～17:40「表彰式＆閉会挨拶」有馬副委員長
本ポスター発表展にて，優秀講演賞に竹内鉄朗氏(大阪大学)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第31回カサロス(懇親会)を開催しました．
第6回ポスター発表展 (2021.10 オンライン)
■日時：2021年10月14日(木) 13:00～17:00
■会場：オンライン (Zoom)
■参加者：100名
■ 資料：案内パンフレット
13:00～13:10「開会挨拶」委員長：冨田寛(キオクシア) 企画：蔦野恭平(オルガノ)
13:10～14:00「ライトニングトーク」
14:00～14:20「事務連絡」：ディスカッション進行説明 ”
14:20～15:15「 ポスターセッション：ディスカッション前半」
15:15～15:35「企業セッション」
15:35～16:30「ポスターセッション：ディスカッション後半」
16:30～16:45「INE活動報告」 総務責任者：吉水康人(東芝メモリ)
16:45～16:55「表彰式＆閉会挨拶」 副委員長：岩元勇人(ソニーセミコンダクターソリューションズ)
16:55～17:00「集合写真撮影」
本ポスター発表展にて，優秀講演賞には 顔暢子氏(栗田工業株式会社) ，委員長特別賞には保坂篤紀氏（静岡大学） が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第30回カサロス(懇親会)をオンライン開催しました．
第5回ポスター発表展 (2020.3 四ッ谷) → 現地開催中止
本ポスター発表展は現地開催中止となりました．発表は成立しています．
日時：2020年3月13日(金) 13:00～17:00
会場：主婦会館プラザエフ
資料：案内パンフレット
13：00～13：10 「開会の辞」 企画：蔦野恭平(オルガノ)
13：10～14：00 「2分間ショートプレゼン」
14：20～16：00 「ポスターセッション」
16：20～16：40 「INE活動報告」 総務責任者：吉水康人(キオクシア)
16：40～16：50 「表彰」 委員長：冨田寛(キオクシア)
16：50～17：00 「閉会の辞」 副委員長： 岩元勇人(ソニーセミコンダクターソリューションズ)
17：00～17：10 「写真撮影」
17：30～19：30 「懇親会(カサロス)」
第4回ポスター発表展 (2019.3 慶應大)
日時：2019年3月11日(月) 13:00～17:30
会場：慶應義塾大学 日吉キャンパス 来往舎
参加者：88名
資料：案内パンフレット
13：00～13：10 「開会の辞」 企画：川上雅之(オルガノ)
13：10～14：10 「2分間ショートプレゼン」
14：10～14：25 (休憩・会場準備)
14：25～16：40 「ポスターセッション」
16：40～17：00 「INE活動報告」 総務責任者：吉水康人(東芝メモリ)
17：00～17：10 「表彰」 副委員長：岩元勇人(ソニーセミコンダクターソリューションズ)
17：10～17：20 「閉会の辞」 実行委員長：安藤 景太(慶應義塾大学)
17：20～17：30 「写真撮影」
本ポスター発表展にて，優秀講演賞には平田瑛子氏(ソニーセミコンダクタソリューションズ)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第27回カサロス(懇親会)を開催しました．
第3回ポスター発表展 (2018.3 慶應大)
日時：2018年3月19日(月) 13:00～17:00
会場： 慶應義塾大学 日吉キャンパス 来往舎
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット
(1)13：15～13：30 「開会の辞」
(2)13：30～14：00 「2分間ショートプレゼン」
(3)14：15～16：00 「ポスターセッション」
(4)16：00～16：20 「吸着WG活動報告」
(5)16：20～16：40 「秋合宿のご案内」「表彰」 「写真撮影」
(6)16：40～16：50 「閉会の辞」
17：00～19：00「懇親会(カサロス)」
本ポスター発表展にて，優秀講演賞には平野智暉氏(阪大)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第24回カサロス(懇親会)を開催しました．
第2回ポスター発表展 (2016.3 慶應大)
日時：2016年3月18日(金) 13:00～17:30
会場： 慶應義塾大学 日吉キャンパス(来往舎)
資料：案内パンフレット
(1)13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
(2)13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
(3)14:00～16:20「ポスターセッション」
(4)16:30～16:45「表彰」「写真撮影」
(5)16:45～17:00「閉会の辞」
本ポスター発表展にて，優秀講演賞には近藤智貴氏(慶應義塾大学)が選ばれました．また本会において，貢献賞を冨田寛氏(株式会社東芝)，岩元勇人氏(ソニー株式会社)に授与しました．ポスター発表展終了後には第20回カサロス(懇親会)を開催しました．
第1回ポスター発表展 (2015.3 厚木)
■開催趣旨：本研究会は界面ナノ現象を明らかにすることでウェットプロセスに関する学問を構築し，次世代へと教育できる環境を整えています．同時に本研究会成果物の実行者である若手の主体性が極めて重要です．そこで「若手のポスター発表展 －ベテランとの議論に打ち勝て！－」と題し，若手に発表の機会を与え，発表形式をポスターとすることによりベテラン技術者とのFace to faceの議論を通じ，若手の主体性強化を目的とし発表展を企画します．
日時：2015年3月10日(火) 13:00～17:30
会場： プロミティあつぎビル 1F 小ホール
13:00～13:15「開会の辞」吉水康人(東芝)
13:15～13:45「各発表者から1分間のショートプレゼン」
14:00～16:35「ポスターセッション」
16:45～17:15「事務連絡」「表彰」
17:15～17:30「閉会の辞」
本ポスター発表展にて，最優秀賞には住谷まり子氏(東芝)，優秀賞には蘆立浩明氏(東芝)，堀家千代子氏(関東化学)が選ばれました．また，ポスター発表展終了後には第18回カサロス(懇親会)を開催しました．
