吸着・乾燥WG合同ワークショップ 第3回 「回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション」(2023.5 田町)

SCREEN セミコンダクターソリューションズの佐藤様より,回転基板(ウェハ)上の流動解析についてご講演頂いた上で,界面における水の挙動について議論しました.

■2023年5月19日(金) 13:00-17:00
■場所:キオクシア本社 田町ステーションタワーS
■講演
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 佐藤雅伸 様
「 回転基板上のLES-VOF法を使用した流体シミュレーション 」
■ ファシリテータ:
 キオクシア 吉水康人
 オルガノ 矢野大作
■参加者数:21名