日時：(不明)
場所：(不明)
プログラム：
「MOSFET性能と洗浄技術」冨田寛(東芝)
「物理洗浄概説と蒸気2流体への応用」真田俊之(静岡大学)
「二流体ジェット洗浄と溶存ガス水メガソ洗浄」菅野至(ルネサスエレクトロニクス)
パネルディスカッション「物理洗浄の本質に迫る」モデレーター 佐藤雅伸(大日本スクリーン製造)