日時：2019年11月13日(水) 13：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考２」
参加者：23名

日時：2019年10月25日(金) 11：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「分子動力学計算によるSi-O-H新水面における水とIPAの挙動について」
参加者：26名

日時：2019年8月30日(金) 11：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「液挙動に対するメカニズムを理解する」接触角，後退接触角，表面張力について
参加者：26名

日時：2019年7月4日(木) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考」
参加者：20名

日時：2019年6月21日(金) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「 “綺麗”ではない乾燥とは？ 」
参加者：20名

日時：2019年3月27日(水) 12：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「物質移動係数の基礎」
「有機材料中極微量金属の存在形態について」
参加者：20名

日時：2019年1月18日(金) 13：30～17：30
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「 有機溶剤中の極微量汚染に関する吸着現象の理解と分析手法 」
参加者：14名

日時：2016年2月3日(水) 13：30～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)

日時：2015年11月27日(金) 10：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 泉克文氏(泉特許事務所所長)
「暗黙知の見える化」
総括ワークショップ

日時：2015年10月2日(金) 14：00～17：00
場所：関東化学株式会社 本社
プログラム：
佐藤正秀准教授(宇都宮大学 物質科学専攻)
「ぬれ性のメカニズムと測定・制御技術」
ディスカッション