■2020年1月29日(水)
■場所：キオクシア 渋谷オフィス
■内容
「固液気三界面に関する液体の乾燥および固体表面への物質吸着現象の理解を深める」
■ ファシリテータ：
　キオクシア 吉水康人，中岡聡

日時：2019年11月13日(水) 13：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考２」
参加者：23名

日時：2019年10月25日(金) 11：00～17：00
場所：キオクシア 渋谷オフィス
プログラム：
「分子動力学計算によるSi-O-H新水面における水とIPAの挙動について」
参加者：26名

日時：2019年8月30日(金) 11：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「液挙動に対するメカニズムを理解する」接触角，後退接触角，表面張力について
参加者：26名

日時：2019年7月4日(木) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「ICP-MS計測による有機溶媒中金属不純物存在形態に関する推考」
参加者：20名

日時：2019年6月21日(金) 13：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「 “綺麗”ではない乾燥とは？ 」
参加者：20名

日時：2019年3月27日(水) 12：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「物質移動係数の基礎」
「有機材料中極微量金属の存在形態について」
参加者：20名

日時：2019年1月18日(金) 13：30～17：30
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
「 有機溶剤中の極微量汚染に関する吸着現象の理解と分析手法 」
参加者：14名

日時：2016年2月3日(水) 13：30～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)

日時：2015年11月27日(金) 10：00～17：00
場所：株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム：
基調講演 泉克文氏(泉特許事務所所長)
「暗黙知の見える化」
総括ワークショップ