第5回吸着WG検討会 (2016.2)

日時:2016年2月3日(水) 13:30~17:00
場所:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 品川事業所
プログラム:
基調講演 有馬健太准教授(大阪大学)
「極限レベルの表面創成プロセスとクリーン化技術」
ワークショップ 永渕琢也氏(日本インテグリス)