■固液界面現象の最前線 － 青木秀充先生追悼シンポジウム

日時：2011年8月29日(月)13：30～16：15
場所：山形大学 小白川キャンパス

「電解水から機能水へ ― 青木先生と探ったエコ洗浄」山中弘次(オルガノ株式会社)
「青木先生と研究開発した洗浄プロセス」富盛浩昭(ルネサスエレクトロニクス株式会社)
「電解硫酸によるレジスト剥離(Part2)」永井達夫(栗田工業株式会社)
「枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液膜挙動解析その２」冨田寛(株式会社東芝)
「レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離」真田俊之(静岡大学)
「水のチャージアップWGの総括(2)」宮城雅宏(大日本スクリーン製造株式会社)