2025年10月17日(金)に第27回 講演会&第3回育成WGチュートリアル&第39回カサロス(懇親会)を四ツ谷にて開催します.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.[案内チラシ]
■講演タイトル
●第27回 講演会
招待講演「界面選択的非線形分光法による酸化物/水溶液界面の分子科学」 二本柳聡史先生(理化学研究所)
講演「3DDRAM向けSiチャネル形成プロセスにおけるSi薄膜化エッチャント開発」 桑原奈緒子氏(三菱ケミカル)
講演「ナノスリット内部からのIPA分子の蒸発に関する分子動力学解析」 田部広風海氏(SCREENセミコンダクターソリューションズ)
●第3回育成ワーキンググループ
「分子動力学シミュレーション:液体とその界面の解析を中心とした基礎と応用」山口康隆教授(大阪大学)
■日時:2025年10月17日(金) 13:00~17:15
■場所:プラザエフ(JR 四ツ谷駅麹町口から徒歩 1 分)
■参加費:(学生無料)
一般 4,500円
応用物理学会会員 3,000円
■カサロス(懇親会)
時間 17:30~19:30
場所 プラザエフ(同じ建物)
会費 6,000円(学生無料)
■申込締切:2025年9月15日(月・祝) 17:00
■申込方法
参加申込先URLもしくはQRコードより,「講演会・育成WG」と「カサロス」のそれぞれに申し込みをお願いします.お支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済「イベントペイ」のみとなります.
【育成WG・ポスター発表展】
https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=0007087428
【カサロス(懇親会)】
https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=5570092682