INE特別ワークショップ「半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象」(2025.7.18 日本橋)

INE特別ワークショップ開催のご案内です．今回は，三菱商事 村上一馬様，横河ソリューションサービス 布施理様と一緒に，宇宙と半導体をテーマに議論を行います．
■名称：INE特別ワークショップ
■日時：2025年7月18日(金) 13:00～17:00
■場所：X-NIHONBASHI BASE 日本橋アイティビル 3F
■テーマ：半導体ウェットプロセスのスペースマニュファクチャリングと界面現象
■会費：2000円(懇親会代は別)
■ファシリテータ：東京エレクトロン九州 中森光則
■参加要件：
・WSは討論会形式を採用しておりますので，積極的に議論へ加わってください．
・参加して頂いた方には，次回以降のファシリテータやWS運営等をお願いします．
■定員：30名程度(希望者多数の場合，制限をさせて頂く場合がございます．予めご了承ください．)
■懇親会：同会場にてケータリング 会費3000円
■申し込み締め切り：6/30(月) 7/11(金)
■申込方法：「ワークショップ」と「懇親会」それぞれに申し込みをお願いします．お支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済「イベントペイ」のみとなります．

①INE特別ワークショップ
https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=0915868648
②INE特別ワークショップ懇親会
https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=6143878369

■お問い合わせ先
徳久 智明
関東化学株式会社
e-mail: tokuhisa-tomoaki[at]kanto.co.jp
永渕 琢也
日本インテグリス合同会社
e-mail: Takuya.Nagafuchi[at]entegris.com

第6期活動開始

本研究会は新体制のもと，第6期(2025.1～2027.12予定)の活動に入りました．

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

第26回講演会 ＆ 第1回 育成WG チュートリアル ＆ ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)

【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．2016年からは更なる発展のために，活発な議論，関係者の交流，若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました．コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが，今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました．”歴史を学ぶ，先端プロセスを知る” というテーマを掲げ，著名な方々より興味深い講演を聴講し，様々な年代，幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び，交流し，議論する場を提供します．

日時：2024年11月8日(金)12:45 ～ 9日(土)12:10
会場： ダイキンアレス⻘⾕
参加人数：約80名
資料：案内パンフレット

1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
　寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
　岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
　近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)

2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
　吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
　井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り，岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ，本日(2024.11.8)，2名の方へ貢献賞を授与しました．[授賞式での紹介スライド]

SCREENホールディングス 荒⽊ 浩之 様
2006年の第1回活動から中心となり活動を支えていただきました．その後ほぼ全ての活動(学会時の活動はもちろん、暗黙知の共鳴場としてワーキンググループ活動、ポスター発表展、フォーラムなども)について牽引役を担っていただき，研究会の発展に大きく寄与されました．

静岡大学 真田 俊之 先生
企業メンバー中心であった当研究会の委員⻑を⻘⽊先⽣の跡を引継ぎ9年間3期にわたり務めながら，献身的な活動の成果により徐々に大学の先⽣⽅も参加いただけるようになり，更なる発展に寄与されました．

第25回講演会 [応物シンポジウム] (2024.9 新潟)

本講演会は2024年 第85回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「異分野に拡がる界面ナノ電子化学 ～最先端半導体からバイオサイエンスまで～」として開催されました．

【開催趣旨】最先端の半導体ウェットプロセスは，ナノレベルでの気液固体の相互作用によって制御されます．現象を把握するには，電子化学的な解明が必要でありこのシンポジウムでは，バイオサイエンス等の異なる分野の研究者や技術者と議論し，新たな半導体ウェットプロセス技術の創出につなげます．

日時：2024年9月18日(水) 13:30～17:00
会場：新潟
資料：案内パンフレット

【招待講演】
■ 洗浄乾燥時の微細構造倒壊メカニズム
　小出 辰彦（キオクシア）
■表面極近傍に移動するナノ粒子の三次元挙動観測
　カチョーンルンルアン パナート（九州工業大学）
■多彩な液体と気体のインタラクションで見るバイオ界面
　田中 信行（理化学研究所）
■FM-AFMによるナノスコピックなぬれのその場観察
　荒木 優希（金沢大）

【招待講演・INE第8回ポスター展優秀講演賞記念講演】
■ nmサイズの狭所内SiO2 エッチングにおけるシリコンの疎水性及び表面電位の効果
　宮川 彰平（SCREENホールディングス）

【一般講演】
■枚葉スピン式洗浄のリンス処理における薬液排出過程の三次元数値計算
■純水噴霧の誘導帯電メカニズムの解析
■二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO2ウェハの表面電位の関係性