第9回 INE Link「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」(2025.5.7 オンライン)

今回は横河ソリューションサービス 布施理様にご講演をお願いしました.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.

■日時
2025年5月7日(水) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
横河ソリューションサービス株式会社 半導体ビジネスセンター ビジネス推進部 技術コンサルティングGr
布施理 様
「半導体スペースマニュファクチャリングにおけるウェット処理の課題」
YOKOGAWAは半導体スペースマニュファクチャリングのビジネス化を目指しております.スペースマニュファクチャリングとは,宇宙での製造を意味する言葉で,実際に宇宙で3Dプリンタを用いた実例も存在します.今回の公演では,YOKOGAWAの宇宙および半導体に関する事業紹介,半導体スペースマニュファクチャリングビジネスの概要を紹介いたします.また,宇宙・微重力環境でのウェット処理についての考察を紹介し,皆様と議論を深めたいと考えています.
■ モデレーター:
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則

■申込:以下のURLからお申込みください(第8回,第9回共通です).所属,名前,メールアドレスはINE Linkの趣旨により参加者間で共有します.
https://forms.office.com/r/mD9HdhQCKw
ZoomのURLは後日実行委員からメール連絡されます.

■問い合わせ先(実行委員)
関東化学株式会社 大南 ominami-tatsuki[@]kanto.co.jp
日本インテグリス合同会社 永渕 takuya.nagafuchi[@]entegris.com

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました.コロナ終結後も,INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.

第8回 INE Link「宇宙と半導体の可能性(宇宙ステーションの環境を用いたイノベーション創出)」(2025.4.22 オンライン)

今回は三菱商事 村上一馬様にご講演をお願いしました.皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております.

■日時
2025年4月22日(火) 15:00-17:00 (オンライン開催)
■講演
三菱商事株式会社 宇宙航空機部 商業宇宙ステーションプロジェクトマネージャー
村上一馬 様
「宇宙と半導体の可能性(宇宙ステーションの環境を用いたイノベーション創出) 」
1) 三菱商事の宇宙への取組み
2) 宇宙ステーション産業の国際トレンド
3) 宇宙ステーションにおける半導体関連実験の事例と可能性
4) 宇宙半導体の可能性追求の為の三菱商事の取組み(勉強会/宇宙戦略基金等)
■ モデレーター:
東京エレクトロン九州株式会社 中森光則

■申込:以下のURLからお申込みください(第8回,第9回共通です).所属,名前,メールアドレスはINE Linkの趣旨により参加者間で共有します.
https://forms.office.com/r/mD9HdhQCKw
ZoomのURLは後日実行委員からメール連絡されます.

■問い合わせ先(実行委員)
関東化学株式会社 大南 ominami-tatsuki[@]kanto.co.jp
日本インテグリス合同会社 永渕 takuya.nagafuchi[@]entegris.com

【INE Linkとは】
コロナの影響により様々なイベント開催が困難となった時期に,当研究会ではオンライン開催での交流機会を増やすべく,新しい研究や技術を紹介するイベント「INE Link」を開始しました.コロナ終結後も,INE Linkは人と人,人と技術,技術と技術をつなげる「場」として、シリーズ開催しています.

第9回ポスター発表展(2025.6.20東京都昭島市開催) 発表募集

第9回ポスター発表展を6月20日に東京都昭島市にて開催します.今回もFace to Faceで議論を交える場となりますので,是非とも積極的な発表申込をお願いいたします.

■日時:2025年6月20日(金)午後
    午前中には人材育成WGのチュートリアルを企画しています.お楽しみに!
■場所:Kurita Innovation Hub (KIH) 東京都昭島市
■発表エントリー締切
2025年4月末
■対象
若手技術者,研究者,学生
■表彰: 発表者の中から最優秀講演賞を表彰
■投稿分野
・洗浄,ウェットプロセス,表面・界面のいずれかに関するもの
・現象とメカニズムに触れた内容が好ましい
・新規性が無くても良い(過去に発表した内容でも可)
■発表形式
①ライトニングトーク:当日,自己紹介含めた3分間のショートプレゼンを行って頂きます.
②ポスター発表:ライトニングトーク終了後,ポスター発表を行って頂きます.
※ポスターサイズはA0相当となります.

■ポスター発表エントリーは,以下の2名へメールにてご連絡をお願いします.(送信時に@マークを修正してください)
オルガノ株式会社_蔦野 tsutano-k [at] organo.co.jp
東京エレクトロン株式会社_山中 reijiro.yamanaka [at] tel.com

※参加者募集案内は後日配信いたします.まずはスケジュールの確保をお願いします.
※当日カサロス(懇親会)開催を予定しています.
※参加費用のお支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります.
 (決済には株式会社メタップスペイメントの「イベントペイ」を使用します)

皆様にお会いできるのを楽しみにしております.

第37回カサロス(2025.3.14都内開催) 参加者募集

2025年3月14日(金)に第37回 カサロス(懇親会)を開催します.今年もFace to Faceの活発な議論ができることを楽しみにしています.皆様のご参加を心より、お待ち申し上げております.[案内チラシ]

■日時:2025年3月14日(金) 18:30~20:30
■会場:Royal Indian Restaurant Wine & Bar KOHINOOR(コヒノール)
     hhttps://kohinoor.jp/store.html
    東京都千代田区丸の内1-11-1 パシフィックセンチュリーパレス B1F
■参加費:一般 6000円(税込)・学生無料 ※参加お申込み時に選択をお願いします
■申込方法:参加申込先URLよりお願いします.
 https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=0672069005389223&EventCode=7970040434
 ※参加費用のお支払いはクレジットカードによる事前オンライン決済のみとなります
■申込締切:2月28日(金)12:00迄
 ※定員に限りがあるので早めに参加お申込みください

■世話役:
 関東化学 徳久智明 tokuhisa-tomoaki@kanto.co.jp
 日本インテグリス 永渕琢也 takuya.nagafuchi[at]entegris.com

第6期活動開始

本研究会は新体制のもと,第6期(2025.1~2027.12予定)の活動に入りました.

委員長
岩元勇人(ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

副委員長
吉水康人(キオクシア株式会社)

副委員長
有馬健太(大阪大学)

第26回講演会 & 第1回 育成WG チュートリアル & ポスター発表 [第4回界面ナノ電子化学研究会フォーラムINEF2024] (2024.11 鳥取)

【開催趣旨】界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業,研究機関および大学関係者により,半導体製造プロセスの学術的な解明,発展への貢献を重ねてきました.2016年からは更なる発展のために,活発な議論,関係者の交流,若⼿技術者の育成を目的とした合宿形式のフォーラムを開催してきました.コロナ禍においてはオンラインでの開催を余儀なくされましたが,今回は6年ぶりに対面にて開催することに決定しました.”歴史を学ぶ,先端プロセスを知る” というテーマを掲げ,著名な方々より興味深い講演を聴講し,様々な年代,幅広い職種の関係者が2日間にわたり学び,交流し,議論する場を提供します.

日時:2024年11月8日(金)12:45 ~ 9日(土)12:10
会場: ダイキンアレス⻘⾕
参加人数:約80名
資料:案内パンフレット

1⽇⽬
■招待講演「Si表面のウェットプロセスの歴史や今後への展望」
 寺本章伸先生(広島大学)
■招待講演「CMOSイメージセンサプロセスの歴史と今後の展望」
 岩元勇人様(ソニーセミコンダクタソリューションズ)
■おたのしみ講演「なぜ、欧州⼈はワインを飲むのか︖」
 近藤誠一様(レゾナック)
■ポスター発表
■第36回カサロス(懇親会)

2⽇⽬
■育成WGチュートリアル「軟X線放射光光電子分光を活⽤した表面・界面反応の”その場”分析」
 吉越章隆先生(原子⼒科学研究所)
■招待講演「先端チップレット集積の研究開発動向」
 井上史大先生(横浜国⽴大学)
■ポスター発表

貢献賞を授与しました

界面ナノ電子化学研究会 貢献賞規程に則り,岩元委員長の下で選考委員会を立ち上げ,本日(2024.11.8),2名の方へ貢献賞を授与しました.[授賞式での紹介スライド]

SCREENホールディングス 荒⽊ 浩之 様
2006年の第1回活動から中心となり活動を支えていただきました.その後ほぼ全ての活動(学会時の活動はもちろん、暗黙知の共鳴場としてワーキンググループ活動、ポスター発表展、フォーラムなども)について牽引役を担っていただき,研究会の発展に大きく寄与されました.

静岡大学 真田 俊之 先生
企業メンバー中心であった当研究会の委員⻑を⻘⽊先⽣の跡を引継ぎ9年間3期にわたり務めながら,献身的な活動の成果により徐々に大学の先⽣⽅も参加いただけるようになり,更なる発展に寄与されました.

第25回講演会 [応物シンポジウム] (2024.9 新潟)

本講演会は2024年 第85回応用物理学会秋季学術講演会にてシンポジウム「異分野に拡がる界面ナノ電子化学 ~最先端半導体からバイオサイエンスまで~」として開催されました.

【開催趣旨】最先端の半導体ウェットプロセスは,ナノレベルでの気液固体の相互作用によって制御されます.現象を把握するには,電子化学的な解明が必要でありこのシンポジウムでは,バイオサイエンス等の異なる分野の研究者や技術者と議論し,新たな半導体ウェットプロセス技術の創出につなげます.

日時:2024年9月18日(水) 13:30~17:00
会場:新潟
資料:案内パンフレット

【招待講演】
■ 洗浄乾燥時の微細構造倒壊メカニズム
 小出 辰彦(キオクシア)
■表面極近傍に移動するナノ粒子の三次元挙動観測
 カチョーンルンルアン パナート(九州工業大学)
■多彩な液体と気体のインタラクションで見るバイオ界面
 田中 信行(理化学研究所)
■FM-AFMによるナノスコピックなぬれのその場観察
 荒木 優希(金沢大)

【招待講演・INE第8回ポスター展優秀講演賞記念講演】
■ nmサイズの狭所内SiO2 エッチングにおけるシリコンの疎水性及び表面電位の効果
 宮川 彰平(SCREENホールディングス)

【一般講演】
■枚葉スピン式洗浄のリンス処理における薬液排出過程の三次元数値計算
■純水噴霧の誘導帯電メカニズムの解析
■二流体スプレー時の飛行液滴の電荷特性とSiO2ウェハの表面電位の関係性