本セミナーは以下の通り開催しました．

目的：本セミナーは，若手技術者に半導体生産工程における「チャージアップ現象」の基礎を理解いただくとともに，半導体先端デバイス生産現場におけるチャージアップの影響について紹介し，大学においてはどのような研究がなされているか，産学関係者が集い，学び，情報共有ができる「場」を提供します．
後援：大日本スクリーン製造株式会社
日時：2011年12月6日（火）13:00～16:30
場所：新宿文化センター4F第1会議室
プログラム：
①13:00～13:05「開会の辞」真田俊之(静岡大学)
②13:05～13:15「チャージアップの問題点」田中盛光(ルネサスエレクトロニクス)
③13:15～13:25「水のチャージアップWG活動紹介」宮城雅宏(大日本スクリーン製造)
④13:25～14:05「研究紹介」八塚京子(山形大学)
⑤14:05～14:45「研究紹介」下川博文(神奈川工科大学)
⑥15:00～15:40「チャージアップの基礎と対策（仮題）」藤江昭雄(ESDコンサルタント)
⑦15:40～16:20「チャージアップの基礎と対策（仮題）」鈴木政典(テクノ菱和)
⑧16:20～16:30「閉会の辞」矢野大作(オルガノ)
⑨17:00～19:00「懇親会」