■表面評価技術(NICE研究会昇格記念講演会)

日時：2010年3月19日
場所：市従会館(横浜市)
資料：第7回研究会講演集 巻頭言

「洗浄技術の時代がやってきた」湯之上隆(株式会社エフエーサーブ)
「半導体製造装置開発における分析/検査技術」斉藤美佐子(東京エレクトロン株式会社)
「サブ40nm世代向けアンパターンウェーハ検査技術」玉木裕介(ケーエルエー・テンコール株式会社)
「シリコンウェーハの欠陥検出と欠陥レビュー」太田英夫(株式会社日立ハイテクノロジーズ)
「汚染物質回収装置の変革～疎水面自動回収から親水面自動回収の時代へ～」櫻井良夫(有限会社NAS技研)
「化学汚染制御技術」吉澤巌(株式会社ダン・タクマ)
「ウェーハ上の表面分析技術」藪本周邦(分析工房株式会社)