今回は，熊本大学 大平慎一先生，北陸先端科学技術大学院大学 高村禅先生をお招きし，「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」と題して，両先生方のご講演，その後議論を行います．また，INEは半導体ウェット領域での活動が主としていますが，今回はSEAJウェーハプロセス専門委員会と合同開催とし，半導体業界でも領域の違う技術者と交流・議論を深め，参加者間のネットワークを広げることを目的としています．

■日時：2026年5月20日(水) 14:00～17:00
■場所：Rise-A 東京都中央区⽇本橋室町1-7-1 スルガビル7階
　東京メトロ三越前駅A1出口から徒歩1分/東京駅から徒歩12分
　 https://www.rise-a.jp/access/index.html
■テーマ：「液中イオンの電界膜分離・濃縮技術と液中プラズマ発光によるin situ分析技術」
　招待講演者(それぞれ40分の御講演予定)
　国立大学法人 熊本大学 大平慎一 副学長
　国立大学法人 北陸先端科学技術大学院大学 高村 禅教授
■会費：無し(懇親会代は別途徴収)
■ファシリテータ：
　INE）キオクシア 吉水康人，SCREEN 佐藤雅伸　
　SEAJ）SCREEN 増本哲己
■参加要件：
・WGは討論会形式を採用しておりますので，積極的に議論へ加わってください．
・参加者には次回以降のファシリテータやWG運営等をお願いします．
■定員：20名 (希望者多数の場合，制限する場合がございます．予めご了承ください．)
■申込方法：以下のURLもしくは添付QRコードからMicrosoft Formsにアクセスし，必要事項の入力をお願いします．
https://forms.cloud.microsoft/r/hLpCqDdVXL
■懇親会：ワークショップ参加申込者に別途ご案内します．
■申込締切：2026年4月19日12時
　定員に達する前の早めお申し込みがおススメです．
■INE会員参加申し込みについて
　INE会員への登録を希望される場合は，規程をご確認の上，問い合わせ先にご連絡ください．https://annex.jsap.or.jp/kaimen-nano/wp201911/wp-content/uploads/2022/05/rule_INE_20220427.pdf