■新しい物理洗浄技術の創出
CuBEOL洗浄に要求されるモノは何か？：”相手”を知る
次世代乾燥技術開発に向けて：”マランゴニ現象”を知る

日時：2008年3月26日
場所：芝浦工業大学 豊洲キャンパス

「乾燥は固体/液体/気体の3相界面(界線)現象」青木秀充(大阪大学)
「マイクロバブルを用いた環境配慮型洗浄技術～洗浄における界面制御の有効性～」宮本誠(三菱電機株式会社)
「Low-k材料加工時の表面反応について」辰巳哲也(ソニー株式会社)
「低環境負荷型Cuコンタクト界面洗浄プロセスの構築」大口寿史(株式会社東芝セミコンダクター社)
「バッチ式洗浄装置における乾燥技術の変遷と課題」基村雅洋(大日本スクリーン製造株式会社)
「枚葉式洗浄装置における乾燥技術の変遷と課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州株式会社)
「残留液膜・液滴に及ぼす三相界線の挙動の影響」宮本泰治(芝浦工業大学大学院)
「ノベックHFEを用いた水切り乾燥技術」矢ノ目秀利(住友スリーエム株式会社)
「バートレル特殊溶剤その水切り乾燥用途への応用」菊池秀明(三井・デュポンフロロケミカル株式会社)
「旭硝子のフッ素系溶剤とIPA代替としての可能性」岡本秀一(旭硝子株式会社)