本講演会は2013年秋季 第74回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題』として開催されました．

日時：2013年9月16日(月) 13:00～17:15
会場： 同志社大学 京田辺キャンパス C11(TC3 2F-210)

「新材料を用いたデバイス構造における洗浄プロセス設計の課題」岩元勇人(ソニー)
「先端半導体メモリにおける洗浄技術の課題」小川義宏(東芝セミコンダクター＆ストレージ社 先端メモリ開発センター)
「ナノスケールのスリット内への液体浸入に関する分子動力学解析(第2報: 残留ガスの影響)」山口康隆(阪大院工)
「微小空間におけるウェットエッチング挙動の考察(2)」奥山敦(ソニーセミコンダクタ)
「超臨界二酸化炭素中の微粒子挙動」菅原広(オルガノ)
「CMP後洗浄用PVAブラシの摩擦特性」真田俊之(静大工)
「不純物対応洗浄プロセスの課題」明星裕也(パナソニック)
「半導体デバイスにおけるダメージレス洗浄の課題」田中盛光(ルネサスエレ)
「水のチャージアップWG第2期活動報告」矢野大作(オルガノ)
「吸光分光法を用いたCMPスラリー中過酸化水素濃度のインライン測定」高木想(堀場製作所)
「環境負荷削減対応用、枚葉で常温洗浄真空乾燥の研究開発」山本義治(ヤマトテクノス)
「枚葉洗浄Systemの課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)