本講演会は半導体素子の次世代構造および材料について，第一線で活躍されている先生より講演をして頂き，最先端でどのような研究がなされているかを，学び情報共有できる「場」を提供することを目的として行われました．また，講演会終了後には第16回カサロス(懇親会)を開催しました．

日時：2014年3月17日(月) 13：30～16：30
会場：東京工業大学 すずかけ台キャンパス すずかけホール集会室1
参加者： 53名

13:30～13:35「開会の辞」真田俊之(静岡大)
13:35～15:05「低消費電力LSI向けデバイス技術動向(仮)」若林整(東工大)
15:20～16:20「ポストシリコン半導体における界面制御技術」細井卓治(大阪大)
16:20～16:25「閉会の辞」萩本賢哉(ソニー)