本講演会は2014年秋季 第75回応用物理学会学術講演会にてシンポジウム『界面ナノ電子化学：半導体ウェットプロセスの最前線』として開催されました．

日時：2014年9月17日(水) 13:30～17:30
会場： 北海道大学 札幌キャンパス

「オープニング： シンポジウム開催にあたって」矢野大作(オルガノ)
招待講演「III-V族化合物半導体の電気化学エッチングと微細加工への応用」佐藤威友(北大量集セ)
招待講演「洗浄プロセス要求品質を検討する新しい取り組み -STRJ・SEMI・INE連携の必要性–」冨田寛(東芝S&S社)
「PVAブラシの粘弾性と摩擦特性」真田俊之(静大)
「枚葉洗浄SystemにおいてWafer帯電除去の課題」戸島孝之(東京エレクトロン九州)
「150℃硫酸中におけるフィルターの除粒子性能評価方法の検討」高倉知征(日本ポール)
招待講演「溶液との界面化学に基づく次世代半導体表面の原子レベル構造制御」有馬健太(阪大院工)
「半導体プロセスを用いたナノギャップ電極の作製」吉水康人(東芝)
「Cu表面の異常酸化メカニズムの研究」林浩平(和光純薬工業)
「薬液中の低濃度溶存酸素モニタリング」井上健太郎(堀場アドバンスドテクノ)
「SiO2の固体壁面近傍における水およびアルコールの挙動の分子動力学解析」中岡聡(阪大工)
「クロージング：シンポジウム閉会にあたって」真田俊之(静岡大)