界面ナノ電子化学研究会は半導体ウェットプロセスに関する様々な企業，研究機関および大学関係者により，半導体製造プロセスの学術的な解明，発展への貢献を重ねてきました．更なる発展のために活発な議論，関係者の交流，若手技術者の育成などを目的とし合宿形式の第1回フォーラムを開催しました．

日時：2016年10月28日(金)13:00～29日(土)12:00
会場： 信州上諏訪温泉「浜の湯」
資料：案内パンフレット

■1日目(10月28日)
開会挨拶：真田俊之(静岡大)
基調講演「裏面照射型CMOSイメージセンサ開発経緯と今後の展望」岩元勇人(ソニー)
基調講演「極薄水膜内の固体表面の原子スケール周波数変調AFM観察」新井豊子(金沢大)
「UCPSS 2016レポート」真田俊之(静岡大) 他
基調講演「人工知能と半導体プロセス」湯之上隆(微細加工研究所)
第21回カサロス(懇親会) 兼 ランプセッション ～半導体の未来を語り合う～
■2日目(10月29日)
招待講演「研究開発者・技術者のマネジメント」田中秀樹(青森公立大)
招待講演「水の話」山中弘次(オルガノ・長岡技科大)
ラウンドテーブルセッション(ポスターセッション)
閉会挨拶：冨田寛(東芝)