2014年5月23日(金) 12:55-17:45
第172回 研究集会
開催場所
産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 本部・情報棟1F ネットワーク会議室
http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.htmlテーマ | グラフェンナノ構造の革新的デバイスへの展開 |
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参加費 | 通常分科会員2000円,非分科会員4000円 |
担当 | 種村眞幸(名工大)、寒川誠二(東北大学)、遠藤和彦(産総研) |
共催 | フロンティアプロセス研究会、インテリジェントナノプロセス研究会 |
プログラム
12:55-13:00 開会のあいさつ
13:00-13:45
「グラフェン中の純スピン流とスピン変換」
白石誠司(京大)
13:45-14-30
「グラフェン/二次元層状化合物ヘテロ構造の作製と応用」
町田友樹(東大)
14:30-15:15
「ナノカーボン, 単原子層物質のナノ光科学」
松田一成(京大)
(休憩) 15分
15:30-16:15
「超低損傷中性粒子ビームエッチングによるエッジを制御したグラフェンナノ構造の形成とデバイスへの展開」
寒川誠二(東北大)
16:15-17:00
「複合構造形成によるグラフェン系材料の物性制御」
岡田晋(筑波大)
17:00-17:45
「トポロジカル絶縁体の電子-ホールエンタングルメントとスピンゼーベック効果におけるLandau-Lifshitz理論についての紹介」
佐藤浩司(東北大)
17:45 閉会のあいさつ
18:00 懇親会
懇親会費:3000円
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