研究集会
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共催 第258回 表面・界面・シリコン材料研究集会
日 時：2025年6月27日(金) 13:00 - 17:20場 所：■名古屋大学 ES総合館 (愛知県)テーマ：MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化－材料・プロセス技術 -
主催 第259回 シリコンテクノロジー分科会モデリング研究委員会主催研究集会
日 時：2025年7月17日(木) 13:00 - 16:00場 所：■対面：金沢工業大学虎ノ門キャンパス（先着100名）
東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル12階
■オンライン：Zoom予定
※学生の皆様は、現地参加も含めて無料といたします。
ただし、会場収容人数の制約もあり現地参加のみ先着順といたします。テーマ：Physics-Informed ニューラルネットワークの半導体シミュレーションへの応用展開