研究集会

  • 主催 第217回研究集会

    日 時:2019年6月21日(金) 11:00 - 17:05
    場 所:名古屋大学 ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール3F
    テーマ:MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術
  • 主催 第218回研究集会

    日 時:2019年7月12日(金) 10:00-15:40
    場 所:応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)
    テーマ:デバイス・材料・プロセス開発のための情報科学的手法の応用と展開
1 / 11

研究会アーカイブ

このページの上部へ