研究集会

2011年度

  • 主催 第141回 研究集会

    日 時:2011年11月10日(木), 11日(金) 10:00~15:30, 10:00~17:00
    場 所:機械振興会館 地下3階 研修-1
    テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
  • 主催 第140回 研究集会

    日 時:2011年8月5日(金) 9:00-17:00
    場 所:東北大学流体科学研究所COE棟セミナー室
    テーマ:グリーン・ナノデバイスの新たな展開
  • 主催 第139回 研究集会

    日 時:2011年7月21日(木) 10:00-17:10
    場 所:産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
    テーマ:VLSIシンポジウム特集 (先端CMOSデバイス・プロセス技術)
  • 主催 第138回 研究集会

    日 時:2011年7月8日(金) 10:00-16:20
    場 所:大阪大学サイバーメディアセンター豊中教育研究棟(豊中キャンパス)
    テーマ:半導体モデリング・シミュレーションの新展開
  • 主催 第137回 研究集会

    日 時:2011年7月4日 9:00-
    場 所:名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
    テーマ:ゲートスタック技術の進展-半導体機能界面の特性評価を中心に
  • 主催 第136回 研究集会

    日 時:2011年5月27日(金) 13:30-17:30
    場 所:海事センタービル
    テーマ:SPIE Advanced Lithography 2011特集
  • 主催 第135回 研究集会

    日 時:2011年3月7日(月) 13:30-17:00
    場 所:キャンパス・イノベーションセンター東京 多目的室2
    テーマ:先端CMOSデバイスに応えるドーパント制御・接合形成・評価技術
  • 主催 第134回 研究集会

    日 時:2011年3月4日(金) 13:00~17:00
    場 所:学習院大学 南7号館101教室
    テーマ:先端半導体デバイスの微細化に伴うシリコン基板への要求~どこまで究極的にウェーハ平坦化が必要なのか~
  • 主催 第133回 研究集会

    日 時:2011年2月18日 13:00~17:50
    場 所:東京大学浅野キャンパス工学部9号館1階大会議室
    テーマ:最先端プラズマプロセスにおけるダメージ/バラつき/異物制御
  • 主催 第132回 研究集会

    日 時:2011年2月7日(月) 10:00~17:00
    場 所:機械振興会館 地下 3 階 研修 1 号室
    テーマ:配線・実装技術と関連材料技術
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