イベントカレンダー

研究集会

2019年度

  • 主催 第220回研究集会

    日　時：2019年11月18日(月) 13:05-17:40
    場　所：応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)
    テーマ：マイクロLED技術の現状と今後の展開
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  • 主催 第219回研究集会

    日　時：2019年11月7日(木)-11月8日(金)
    場　所：機械振興会館 地下3F B3-2会議室
    テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
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  • 主催 第218回研究集会

    日　時：2019年7月12日(金) 10:00-15:40
    場　所：応用物理学会　応物会館　3階会議室　(根津神社の真ん前)
    テーマ：デバイス・材料・プロセス開発のための情報科学的手法の応用と展開
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  • 主催 第217回研究集会

    日　時：2019年6月21日(金) 11:00 - 17:05
    場　所：名古屋大学 ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール３F
    テーマ：MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術
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  • 主催 第216回研究集会

    日　時：2019年2月28日(木) 13:00-17:30
    場　所：大阪大学中之島センター 301講義室
    テーマ：新しい可能性を創り出すEmerging Junction technology
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  • 主催 第215回 研究集会

    日　時：2019年2月8日(金) 13:00－17:05
    場　所：東京大学/本郷/工学部4号館/３階401号室
    テーマ：ドライエッチング技術のChallenge
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  • 主催 第214回研究集会

    日　時：2019年2月7日 10:00-16:55
    場　所：東京大学/本郷キャンパス工学部4号館 42講義室
    テーマ：「配線・実装技術と関連材料技術」
    （集積回路・MEMS等における配線・実装技術全般、デバイス、プロセス、材料）
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  • 主催 第213回研究集会

    日　時：2019年1月29日(火) 9:30-16:30
    場　所：機会振興会館 地下3F 研修2号室
    テーマ：ULSIデバイス・プロセス技術（IEDM2018特集）
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