研究集会
2019年度
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主催 第220回研究集会
日 時：2019年11月18日(月) 13:05-17:40場 所：応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)テーマ：マイクロLED技術の現状と今後の展開 -
主催 第219回研究集会
日 時：2019年11月7日(木)-11月8日(金)場 所：機械振興会館 地下3F B3-2会議室テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 -
主催 第218回研究集会
日 時：2019年7月12日(金) 10:00-15:40場 所：応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)テーマ：デバイス・材料・プロセス開発のための情報科学的手法の応用と展開 -
主催 第217回研究集会
日 時：2019年6月21日(金) 11:00 - 17:05場 所：名古屋大学 ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール３Fテーマ：MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術 -
主催 第216回研究集会
日 時：2019年2月28日(木) 13:00-17:30場 所：大阪大学中之島センター 301講義室テーマ：新しい可能性を創り出すEmerging Junction technology -
主催 第215回 研究集会
日 時：2019年2月8日(金) 13:00－17:05場 所：東京大学/本郷/工学部4号館/３階401号室テーマ：ドライエッチング技術のChallenge -
主催 第214回研究集会
日 時：2019年2月7日 10:00-16:55場 所：東京大学/本郷キャンパス工学部4号館 42講義室テーマ：「配線・実装技術と関連材料技術」
（集積回路・MEMS等における配線・実装技術全般、デバイス、プロセス、材料） -
主催 第213回研究集会
日 時：2019年1月29日(火) 9:30-16:30場 所：機会振興会館 地下3F 研修2号室テーマ：ULSIデバイス・プロセス技術（IEDM2018特集）