研究集会

2006年度

  • 主催 第89回 研究集会

    日 時:2006年12月19日(火) 13:00-17:40
    場 所:東京大学浅野キャンパスVDEC(武田先端知ビル)5階武田ホール
    テーマ:最先端プラズマプロセス技術
  • 主催 第88回 研究集会

    日 時:2006年12月11日(月) 13:00-17:30
    場 所:東京工業大学大岡山キャンパス 西八号館(E)10F大会議室E1001
    テーマ:レジストLineEdgeRoughnessの課題
  • 主催 第87回 研究集会

    日 時:2006年12月1日(金) 9:30-17:00
    場 所:東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル11階
    テーマ:次世代プロセスを実現可能とする大口径Siウェーハの研究開発-不純物や欠陥の新評価技術,強度維持,計算機シミュレーション-
  • 主催 第86回 研究集会

    日 時:2006年11月17日(金) 10:00-16:50
    場 所:大阪大学サイバーメディアセンター 7階(豊中地区)
    テーマ:半導体輸送モデリングの展開
  • 主催 第85回 研究集会

    日 時:2006年9月29日 10:00-17:00
    場 所:東京工業大学 大岡山キャンパス 東京工業大学百年記念館フェライト会議室
    テーマ:次世代デバイスへのブレークスルー=三次元化の試み=
  • 主催 第84回 研究集会

    日 時:2006年9月25日(月), 26日(火) 13:30-16:15, 10:00-16:40
    場 所:機械振興会館 地下3F 研修1号室
    テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
  • 主催 第83回 研究集会

    日 時:2006年7月20日(木) 9:50-17:40
    場 所:東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
    テーマ:最先端CMOS技術(VLSIシンポジウム特集)
  • 主催 第82回 研究集会

    日 時:2006年6月21日(水), 22日(木) 13:00-17:40, 09:00-15:55
    場 所:広島大学東広島キャンパス 学士会館2階ホール
    テーマ:ゲート絶縁膜技術の展開と諸問題~Si(110)基板、窒素添加、メタルゲート~
  • 主催 第81回 研究集会

    日 時:2006年6月12日(月) 13:30-17:00
    場 所:グランキューブ大阪(大阪国際会議場)10F 1002会議室
    テーマ:接合技術ワークショップ
  • 主催 第80回 研究集会

    日 時:2006年2月10日(金) 9:30-17:00
    場 所:学習院大学南3号館201教室
    テーマ:シリコン結晶に関する基礎研究と応用技術ー若手研究者を中心とした討論会ー
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