研究集会

2005年度

  • 主催 第76回 研究集会

    日 時:2005年 11月25日(金) 9:40-16:45
    場 所:機械振興会館 地下3F 研修-2
    テーマ:TCAD技術の将来像
  • 主催 第75回 研究集会

    日 時:2005年11月24日(木) 13:00-17:00
    場 所:慶應義塾大学 日吉キャンパス 来往舎
    テーマ:「接合技術ワークショップ(ドーピング、エピ、シリサイド)」特集
  • 主催 第74回 研究集会

    日 時:2005年9月26日(月), 27日(火) 13:00-16:25, 10:00-16:40
    場 所:機械振興会館 地下3F 研修1号室
    テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
  • 主催 第73回 研究集会

    日 時:2005年7月25日(月) 9:50-17:30
    場 所:東京大学生産技術研究所 An棟2階 コンベンションホール
    テーマ:最先端CMOS技術(VLSIシンポジウム特集)
  • 主催 第72回 研究集会

    日 時:2005年7月7日(木), 8日(金) 10:00-19:30, 9:45-17:30
    場 所:日本科学未来館
    テーマ:NGLワークショップ2005 特集
  • 主催 第71回 研究集会

    日 時:2005年6月22日(水) 13:00-17:50
    場 所:東京大学浅野キャンパスVDEC(武田先端知ビル)5階武田ホール
    テーマ:「65 nmから45 nmノードlow-kエッチングの最前線」―low-kエッチングプロセスにおける課題とそのソリューション―
  • 主催 第70回 研究集会

    日 時:2005年6月9日(木), 10日(金) 12:30-18:30, 9:00-16:40
    場 所:広島大学 東広島キャンパス学士会館2階ホール
    テーマ:ゲート絶縁膜の現状と課題 ~ 誘電率と界面 ~
  • 主催 第68回 研究集会

    日 時:2005年2月4日(金) 9:30-16:50
    場 所:学習院大学南 2 号館 200 番教室
    テーマ:シリコンエピ,アニールウェーハの限界とそれを打破する欠陥制御,評価技術開発の挑戦
  • 主催 第69回 研究集会

    日 時:2005年1月31日 10:00-17:00
    場 所:機械振興会館 6階 67号室
    テーマ:低誘電率層間膜、配線材料及び一般
  • 主催 第67回 研究集会

    日 時:2005年1月21日(金) 9:30-17:10
    場 所:日本大学理工学部船橋キャンパス
    テーマ:最先端CMOS技術(IEDM特集)
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