イベントカレンダー

研究集会

2005年度

  • 主催 第76回 研究集会

    日　時：2005年 11月25日(金) 9:40-16:45
    場　所：機械振興会館 地下3F 研修-2
    テーマ：ＴＣＡＤ技術の将来像
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  • 主催 第75回 研究集会

    日　時：2005年11月24日(木) 13:00-17:00
    場　所：慶應義塾大学　日吉キャンパス　来往舎
    テーマ：「接合技術ワークショップ(ドーピング、エピ、シリサイド)」特集
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  • 主催 第74回 研究集会

    日　時：2005年9月26日（月）, 27日（火） 13:00-16:25, 10:00-16:40
    場　所：機械振興会館 地下3Ｆ 研修1号室
    テーマ：「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
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  • 主催 第73回 研究集会

    日　時：2005年7月25日（月） 9:50-17:30
    場　所：東京大学生産技術研究所 An棟2階 コンベンションホール
    テーマ：最先端CMOS技術（VLSIシンポジウム特集）
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  • 主催 第72回 研究集会

    日　時：2005年7月7日（木）, 8日（金） 10:00-19:30, 9:45-17:30
    場　所：日本科学未来館
    テーマ：NGLワークショップ2005　特集
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  • 主催 第71回 研究集会

    日　時：2005年6月22日(水) 13:00-17:50
    場　所：東京大学浅野キャンパスVDEC（武田先端知ビル）５階武田ホール
    テーマ：「65 nmから45 nmノードlow-kエッチングの最前線」―low-kエッチングプロセスにおける課題とそのソリューション―
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  • 主催 第70回 研究集会

    日　時：2005年6月9日(木), 10日(金) 12:30-18:30, 9:00-16:40
    場　所：広島大学 東広島キャンパス学士会館２階ホール
    テーマ：ゲート絶縁膜の現状と課題 ～ 誘電率と界面 ～
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  • 主催 第68回 研究集会

    日　時：2005年2月4日（金） 9:30-16:50
    場　所：学習院大学南 2 号館 200 番教室
    テーマ：シリコンエピ，アニールウェーハの限界とそれを打破する欠陥制御，評価技術開発の挑戦
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  • 主催 第69回 研究集会

    日　時：2005年1月31日 10:00-17:00
    場　所：機械振興会館 6階 67号室
    テーマ：低誘電率層間膜、配線材料及び一般
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  • 主催 第67回 研究集会

    日　時：2005年1月21日(金) 9:30-17:10
    場　所：日本大学理工学部船橋キャンパス
    テーマ：最先端CMOS技術（IEDM特集）
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