研究集会

2026年度

  • 主催 第268回 研究集会「モデリング研究委員会」

    日 時:2026年11月12日(木) 10:25〜17:35
    2026年11月13日(金) 10:30〜16:15
    場 所:ハイブリッド開催
    ■現地開催場所:機械振興会館 5階 5S-2 会議室(定員25名)
    ※ 機械振興会館:〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
    (東京メトロ日比谷線 神谷町駅から徒歩8分またはJR浜松町駅から徒歩15分)
    ※人数の制約もあり現地参加については先着順で人数制限の可能性があります。
    ■オンライン:Zoom
    テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
  • 主催 シリコンテクノロジー・チュートリアル 2026

    日 時:2026年11月27日(金)13:20~17:30 および
    2026年11月28日(土)09:00~12:00
    場 所:ハイブリッド形式
    現地:パナソニックリゾート大阪 オンライン:Zoom予定

    〒565-0802 大阪府吹田市青葉丘南10-1
    交通アクセス(パナソニックリゾート大阪)
    https://phio.panasonic.co.jp/resort/access/index.html
    テーマ:先端半導体技術チュートリアル ~CMOSの基礎からパッケージ技術まで~
  • 主催 第267回シリコンテクノロジー研究集会「VLSIシンポジウム特集」

    日 時:2026年8月24日(月) 13:00-17:25
    場 所:ハイブリッド開催
    ■現地開催場所:金沢工業大学虎ノ門キャンパス(先着100名)
    ※東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル 13階1301室
    ※学生の皆様は、現地参加も含めて無料といたします。
     ただし、会場収容人数の制約もあり現地参加のみ先着順といたします。
    ■オンライン:Zoom予定
    テーマ:VLSIシンポジウム特集
  • 共催 第266回 研究集会 シリコンテクノロジー分科会

    日 時:2026年6月29日(月) 13:25-17:15
    場 所:TCU Shibuya PXU(東京都市大学渋谷パクス)
    〒150-0043 東京都渋谷区道玄坂1-10-7 五島育英会ビル8階(対面開催)
    テーマ:MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化 -材料・プロセス技術-
  • 共催 第265回 研究集会「多層配線システム研究委員会」

    日 時:2026年3月13日(金) 11:00-18:10
    場 所:ハイブリッド開催
    ■現地開催場所:金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス
    〒105-0002 東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル12階
    テーマ:配線・実装技術と関連材料技術
  • 主催 第264回 研究集会「ナノ・マイクロファブケーション研究会」

    日 時:2026年2月27日(金) 13:30-17:45
    場 所:■現地開催場所:東京大学 / 本郷キャンパス工学部 4号館 3階 42講義室
    ■オンライン:なし
    テーマ:半導体プラズマプロセスにおける最新の研究事情:低温HFエッチングとデータ駆動型プロセス
  • 共催 第263回 研究集会「IEDM特集」

    日 時:2026年1月28日(水) 13:00-17:25
    場 所:ハイブリッド開催
    ■現地開催場所:金沢工業大学虎ノ門キャンパス(先着100名)
    ※東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル 13階1301室
    ※会場収容人数の制約もあり現地参加のみ先着順といたします。
    ■オンライン:Zoom予定
    テーマ:IEDM特集

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