第76回 研究集会
開催場所
機械振興会館 地下3F 研修-2
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8交通手段 地下鉄神谷町下車徒歩10分
テーマ | TCAD技術の将来像 |
---|---|
参加費 | 分科会員 2,000円 非分科会員 4,000円 |
担当 | モデリング研究委員会 |
プログラム
座長 羽根(NEC)
9:40-9:45
1. モデリング研究委員会から
小田 中紳二(阪大)
9:45-10:15
2. 半導体技術ロードマップにおけるTCAD
和田 哲典(半導体先端テクノロジーズ)
10:15-10:45
3. 各テクノロジノードにおけるSRAMセルの解析
岡 秀樹、田辺 亮、芦澤 芳夫、戸坂 義春(富士通研究所)
10:45-11:15
4. MOSFET回路モデルの最新動向
執行 直之、大黒 達也(東芝 セミコンダクター社)
昼食
座長 石川(ルネサス)
12:45-13:15
5. 光リソグラフィにおける超解像技術とマスクパターン設計
三坂 章夫、笹子 勝(松下電器産業 半導体社)
13:15-13:45
6. ゲート絶縁膜材料設計のための原子スケールシミュレーション
金田 千穂子、山崎 隆浩(富士通研究所)
休息
座長 佐藤(富士通)
14:00-14:30
7. FLAを用いたMOSFETのhalo注入条件最適化
辻井 秀二1、安達 甘奈1、大内 和也1、青木 伸俊1、伊藤 貴之2、松尾 浩司2、須黒 恭一2、石丸 一成1、石内 秀美1(東芝 セミコンダクター社 1:SoC研究開発センター 2:プロセス技術推進センター)
14:30-15:00
8. CBCM法を応用した微細化デバイスキャラクタライズ技術
谷沢 元昭、岡垣 健、國清 辰也、永久 克己、石川 清志、栄森 貴尚(ルネサステクノロジ)
15:00-15:30
9. Mixed-Modeシミュレーションを用いたESD保護設計手法
林 洋一、黒田 俊一*、福田 浩一、馬場 俊祐、福田 保裕*(沖電気工業, *:沖エンジニアリング)
休息
座長 松沢(東芝)
15:45-16:15
10. 高効率な統計SPICEパラメータ抽出法
竹内 潔、羽根 正巳(NEC システムデバイス研究所)
16:15-16:45
11. ばらつき設計とTCADへの期待
増田 弘生(半導体理工学研究センター)