「LER評価・解析方法の現状と課題」
日立：山口敦子、川田洋揮、飯泉　孝

「走査型プローブ顕微鏡の半導体デバイス分野への応用」
SII：岩佐真行

「光ナノインプリントパターンのLER評価」
産総研：廣島 洋、倉島優一、古室昌徳

「傾斜ステップインAFM法による側壁形状計測とLERの評価」
ASET：村山 健

「LER低減に向けた分子性レジスト基材の開発」
三菱ガス化学：小黒 大、越後雅敏

「低分子レジストの開発」
東京応化：塩野大寿