2019年11月18日(月) 13:05-17:40
第220回研究集会
開催場所
応用物理学会 応物会館 3階会議室 (根津神社の真ん前)
東京メトロ 千代田線 根津駅（1番出口より徒歩6分）東京メトロ 南北線 東大前駅（1番出口より徒歩7分）
根津神社の真ん前に応物会館がございます。 https://www.jsap.or.jp/about_jsap/office
| テーマ | マイクロLED技術の現状と今後の展開 |
|---|---|
| 参加費 | シリテク分科会会員2,000円，その他4,000円 |
プログラム
13:05-13:10 はじめに
(1)13:10-14:00
[基調講演] 「GaNマイクロLEDディスプレイ技術の将来展望」
本田 徹 工学院大学
(2)14:00-14:40
[招待講演] 「マイクロLEDディスプレイの普及に向けた課題整理」
牛田 泰久 名古屋大学
(3)14:40-15:20
[招待講演] 「超高精細マイクロLEDディスプレイに資するEu添加GaN赤色LEDの高輝度化とRGB集積化」
藤原 康文 大阪大学
(4)15:40-16:20
[招待講演] 「高解像度・高輝度マイクロLEDディスプレイに向けた指向性GaNマイクロLED」
王 学論 産業技術総合研究所
(5)16:20-17:00
[招待講演] 「GaN系材料の原子層無損傷加工技術」
寒川 誠二 東北大学
(6)17:00-17:40
[招待講演] 「スパッタ法を用いて作製した大面積マイクロLEDディスプレイの可能性」
藤岡 洋 東京大学
(1)13:10-14:00
[基調講演] 「GaNマイクロLEDディスプレイ技術の将来展望」
本田 徹 工学院大学
(2)14:00-14:40
[招待講演] 「マイクロLEDディスプレイの普及に向けた課題整理」
牛田 泰久 名古屋大学
(3)14:40-15:20
[招待講演] 「超高精細マイクロLEDディスプレイに資するEu添加GaN赤色LEDの高輝度化とRGB集積化」
藤原 康文 大阪大学
(4)15:40-16:20
[招待講演] 「高解像度・高輝度マイクロLEDディスプレイに向けた指向性GaNマイクロLED」
王 学論 産業技術総合研究所
(5)16:20-17:00
[招待講演] 「GaN系材料の原子層無損傷加工技術」
寒川 誠二 東北大学
(6)17:00-17:40
[招待講演] 「スパッタ法を用いて作製した大面積マイクロLEDディスプレイの可能性」
藤岡 洋 東京大学
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